回転円盤上の薄膜形成

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著者

    • 小原, 拓 オハラ, タク

書誌事項

タイトル

回転円盤上の薄膜形成

著者名

小原, 拓

著者別名

オハラ, タク

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第8983号

学位授与年月日

1991-03-29

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 本文目次 / p2 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p6 (0007.jp2)
  3. 1.1 本研究の目的及び意義 / p7 (0008.jp2)
  4. 1.2 関連する従来の研究 / p9 (0010.jp2)
  5. 1.3 本研究の概要 / p13 (0014.jp2)
  6. 1.4 主な記号 / p14 (0015.jp2)
  7. 第2章 回転円盤上の流体塊の挙動 / p16 (0017.jp2)
  8. 2.1 序 / p17 (0018.jp2)
  9. 2.2 数値計算法 / p18 (0019.jp2)
  10. 2.3 数値計算結果及び考察 / p30 (0031.jp2)
  11. 2.4 本章のまとめ / p39 (0040.jp2)
  12. 第3章 回転円盤上の液膜流動と熱・物質移動 / p41 (0042.jp2)
  13. 3.1 序 / p42 (0043.jp2)
  14. 3.2 基礎方程式及び境界条件 / p44 (0045.jp2)
  15. 3.3 数値計算法 / p49 (0050.jp2)
  16. 3.4 数値計算結果及び考察 / p61 (0062.jp2)
  17. 3.5 本章のまとめ / p77 (0078.jp2)
  18. 第4章 薄膜形成過程の数値解析 / p78 (0079.jp2)
  19. 4.1 序 / p79 (0080.jp2)
  20. 4.2 基礎方程式及び境界条件 / p80 (0081.jp2)
  21. 4.3 数値計算法 / p84 (0085.jp2)
  22. 4.4 数値計算結果及び考察 / p91 (0092.jp2)
  23. 4.5 本章のまとめ / p110 (0111.jp2)
  24. 第5章 膜厚計測実験 / p112 (0113.jp2)
  25. 5.1 序 / p113 (0114.jp2)
  26. 5.2 実験装置 / p114 (0115.jp2)
  27. 5.3 実験結果及び考察 / p122 (0123.jp2)
  28. 5.4 本章のまとめ / p136 (0137.jp2)
  29. 第6章 結論 / p138 (0139.jp2)
  30. 付録 / p141 (0142.jp2)
  31. 文献 / p145 (0146.jp2)
  32. 謝辞 / p152 (0153.jp2)
4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000081741
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000081949
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000246055
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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