イオン照射によって酸化物系セラミックスに導入された欠陥、主として転位に関する電子顕微鏡を用いた研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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イオン照射によって酸化物系セラミックスに導入された欠陥、主として転位に関する電子顕微鏡を用いた研究
- 著者名
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太田, 丈児
- 著者別名
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オオタ, ジョウジ
- 学位授与大学
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東京大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
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甲第9034号
- 学位授与年月日
-
1991-03-29
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0002.jp2)
- 第1章 緒言 / p1 (0004.jp2)
- 第1章の参考文献 / p8 (0011.jp2)
- 第2章 酸化物セラミックスの照射損傷 / p9 (0012.jp2)
- 2-1 序論 / p9 (0012.jp2)
- 2-2 入射イオンの飛程および損傷量の評価 / p12 (0015.jp2)
- 2-3 実験方法 / p16 (0019.jp2)
- 2-4 Mg0の照射損傷 / p19 (0022.jp2)
- 2-5 Al₂O₃の照射損傷 / p36 (0039.jp2)
- 2-6 Mg-Al₂O₄の照射損傷 / p45 (0048.jp2)
- 2-7 結論 / p51 (0054.jp2)
- 第2章の参考文献 / p52 (0055.jp2)
- 第3章 Mg0結晶中の欠陥の高分解能電子顕微鏡観察 / p54 (0057.jp2)
- 3-1 序論 / p54 (0057.jp2)
- 3-2 NaCl型結晶中の転位に関する従来の研究 / p55 (0058.jp2)
- 3-3 高分解能電子顕微鏡像の計算原理と計算方法 / p59 (0062.jp2)
- 3-4 像計算の結果 / p71 (0074.jp2)
- 3-5 実験方法 / p82 (0085.jp2)
- 3-6 実験結果および考察 / p82 (0085.jp2)
- 第3章の参考文献 / p101 (0105.jp2)
- 第4章 結言 / p102 (0106.jp2)
- 謝辞 / p104 (0108.jp2)