熱プラズマCVD法によるセラミックス微粒子合成とその焼結特性

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著者

    • 李, 亨稙 リ, ヒョンチク

書誌事項

タイトル

熱プラズマCVD法によるセラミックス微粒子合成とその焼結特性

著者名

李, 亨稙

著者別名

リ, ヒョンチク

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第9037号

学位授与年月日

1991-03-29

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1 緒言 / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2 熱プラズマと微粒子合成 / p2 (0006.jp2)
  5. 1-3 Si₃N₄の無添加無加圧焼結の可能性 / p12 (0016.jp2)
  6. 1-4 本論文の構成 / p15 (0019.jp2)
  7. 参考文献 / p16 (0020.jp2)
  8. 第2章 ハイブリッドプラズマによるSi₃N₄-SiC系微粒子合成における生成過程制御 / p19 (0023.jp2)
  9. 2-1 緒言 / p19 (0023.jp2)
  10. 2-2 実験方法 / p19 (0023.jp2)
  11. 2-3 実験結果 / p26 (0030.jp2)
  12. 2-4 考察 / p45 (0049.jp2)
  13. 2-5 結論 / p51 (0055.jp2)
  14. 参考文献 / p51 (0055.jp2)
  15. 第3章 加熱履歴制御によるSi₃N₄-SiC系微粒子の焼結特性 / p53 (0057.jp2)
  16. 3-1 緒言 / p53 (0057.jp2)
  17. 3-2 実験方法 / p53 (0057.jp2)
  18. 3-3 実験結果 / p59 (0063.jp2)
  19. 3-4 考察 / p71 (0075.jp2)
  20. 3-5 結論 / p79 (0083.jp2)
  21. 参考文献 / p80 (0084.jp2)
  22. 第4章 総括 / p82 (0086.jp2)
  23. 謝辞 / (0088.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000081795
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000082003
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000246109
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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