交流用NbTi極細多芯線の高電流密度化に関する研究

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著者

    • 原田, 直幸 ハラダ, ナオユキ

書誌事項

タイトル

交流用NbTi極細多芯線の高電流密度化に関する研究

著者名

原田, 直幸

著者別名

ハラダ, ナオユキ

学位授与大学

九州大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第2849号

学位授与年月日

1991-09-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 緒言 / (0006.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0009.jp2)
  4. 1.1 超伝導体の臨界電流密度と量子化磁束のピンニング現象 / p1 (0009.jp2)
  5. 1.2 交流用超伝導線材における研究開発の現状と問題点 / p12 (0020.jp2)
  6. 1.3 本研究の目的と概要 / p44 (0052.jp2)
  7. 第2章 人工ピンニングセンターによる超伝導フィラメントの高電流密度化 / p47 (0055.jp2)
  8. 2.1 NbTi極細多芯線におけるピンニング特性 / p48 (0056.jp2)
  9. 2.2 新しい人工ピンニングセンターの設計 / p77 (0085.jp2)
  10. 2.3 超伝導フィラメントの臨界電流密度 / p87 (0095.jp2)
  11. 2.4 考察 / p94 (0102.jp2)
  12. 2.5 まとめ / p104 (0112.jp2)
  13. 第3章 超伝導体積率と近接効果 / p106 (0114.jp2)
  14. 3.1 近接効果による磁化の増加 / p108 (0116.jp2)
  15. 3.2 ツイストピッチ依存性の実証 / p122 (0130.jp2)
  16. 3.3 考察 / p134 (0142.jp2)
  17. 3.4 まとめ / p147 (0155.jp2)
  18. 第4章 総括 / p149 (0157.jp2)
  19. 謝辞 / p153 (0161.jp2)
  20. 付録 / p155 (0163.jp2)
  21. 参考文献 / p158 (0166.jp2)
  22. 記号表 / p164 (0172.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000082538
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000082747
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000246852
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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