交流用NbTi極細多芯線の高電流密度化に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
-
交流用NbTi極細多芯線の高電流密度化に関する研究
- Author
-
原田, 直幸
- Author(Another name)
-
ハラダ, ナオユキ
- University
-
九州大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
甲第2849号
- Degree year
-
1991-09-27
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- 緒言 / (0006.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0009.jp2)
- 1.1 超伝導体の臨界電流密度と量子化磁束のピンニング現象 / p1 (0009.jp2)
- 1.2 交流用超伝導線材における研究開発の現状と問題点 / p12 (0020.jp2)
- 1.3 本研究の目的と概要 / p44 (0052.jp2)
- 第2章 人工ピンニングセンターによる超伝導フィラメントの高電流密度化 / p47 (0055.jp2)
- 2.1 NbTi極細多芯線におけるピンニング特性 / p48 (0056.jp2)
- 2.2 新しい人工ピンニングセンターの設計 / p77 (0085.jp2)
- 2.3 超伝導フィラメントの臨界電流密度 / p87 (0095.jp2)
- 2.4 考察 / p94 (0102.jp2)
- 2.5 まとめ / p104 (0112.jp2)
- 第3章 超伝導体積率と近接効果 / p106 (0114.jp2)
- 3.1 近接効果による磁化の増加 / p108 (0116.jp2)
- 3.2 ツイストピッチ依存性の実証 / p122 (0130.jp2)
- 3.3 考察 / p134 (0142.jp2)
- 3.4 まとめ / p147 (0155.jp2)
- 第4章 総括 / p149 (0157.jp2)
- 謝辞 / p153 (0161.jp2)
- 付録 / p155 (0163.jp2)
- 参考文献 / p158 (0166.jp2)
- 記号表 / p164 (0172.jp2)