Ultraviolet-light assisted chemical vapor deposition of Si 紫外線励起シリコン気相成長に関する研究

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著者

    • Motharul Kabir Mazumder モタハル カビル マズンデル

書誌事項

タイトル

Ultraviolet-light assisted chemical vapor deposition of Si

タイトル別名

紫外線励起シリコン気相成長に関する研究

著者名

Motharul Kabir Mazumder

著者別名

モタハル カビル マズンデル

学位授与大学

東北大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第4491号

学位授与年月日

1991-11-13

注記・抄録

博士論文

目次

  1. INDEX / p1 (0005.jp2)
  2. 1.Introduction / p1 (0010.jp2)
  3. 1.1 Chemical vapor deposition of Si epitaxial films / p1 (0010.jp2)
  4. 1.2 Apparatus for the CVD of Si films / p3 (0012.jp2)
  5. 1.3 Reactant gases of Si-contained compounds / p10 (0019.jp2)
  6. 1.4 Low-temperature process for VLSI / p25 (0034.jp2)
  7. 1.5 Cleaning process / p40 (0049.jp2)
  8. 1.6 Generation of growth defects / p44 (0053.jp2)
  9. 1.7 Purpose and method of the present study / p49 (0058.jp2)
  10. References / p54 (0063.jp2)
  11. 2.Experimental / p67 (0076.jp2)
  12. 2.1 Experimental apparatus / p67 (0076.jp2)
  13. 2.2 Sample preparation / p81 (0090.jp2)
  14. 2.3 Growth process / p86 (0095.jp2)
  15. 2.4 Observation of growth defect / p89 (0098.jp2)
  16. 2.5 Measurement of the growth rate / p93 (0102.jp2)
  17. 2.6 Chemical analysis of impurities:Electron Probe Micro analysis / p97 (0106.jp2)
  18. References / p98 (0107.jp2)
  19. 3.Results / p99 (0108.jp2)
  20. 3.1 Generation kinetics of pyramidal hillocks on Si(111) 0º off surfaces / p99 (0108.jp2)
  21. 3.2 Control of pyramidal hillocks / p132 (0141.jp2)
  22. 3.3 Effect of the UV-light irradiated hydrogen carrier gas on Si epitaxial growth / p150 (0159.jp2)
  23. 3.4 Origin and mechanism of the UV-light irradiation effect / p176 (0185.jp2)
  24. References / p205 (0214.jp2)
  25. 4.Discussion / p208 (0217.jp2)
  26. 4.1 Generation mechanism of growth defects on Si(lll) / p208 (0217.jp2)
  27. 4.2 Suppression of growth defect generation: I.No UV-light irradiation / p263 (0272.jp2)
  28. 4.3 Suppression of growth defect generation:II.UV-light irradiated hydrogen / p274 (0283.jp2)
  29. 4.4 Comparison to other photo-CVD methods / p311 (0320.jp2)
  30. References / p316 (0325.jp2)
  31. 5.Conclusion / p322 (0331.jp2)
  32. Acknowledgments / p330 (0339.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000082707
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000082916
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000247021
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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