粒子衝撃耐性に優れたセラミックス複合材料の開発

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著者

    • 秋宗, 淑雄 アキムネ, ヨシオ

書誌事項

タイトル

粒子衝撃耐性に優れたセラミックス複合材料の開発

著者名

秋宗, 淑雄

著者別名

アキムネ, ヨシオ

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第9795号

学位授与年月日

1990-07-12

注記・抄録

博士論文

報告番号: 乙09795 ; 学位授与年月日: 1990-07-12 ; 学位の種別: 論文博士 ; 学位の種類: 工学博士 ; 学位記番号: 第9795号 ; 研究科・専攻: 工学系研究科金属材料学専攻

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第I章 緒論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 緒言 / p3 (0005.jp2)
  4. 1.2 既往の研究 / p3 (0006.jp2)
  5. 1.3 本研究の意義と位置づけ / p26 (0018.jp2)
  6. 1.4 本研究の概要 / p27 (0018.jp2)
  7. 第II章 実験方法の概略 / p43 (0026.jp2)
  8. 2.1 セラミックス材料 / p43 (0026.jp2)
  9. 2.2 セラミックス特性値の評価方法 / p46 (0028.jp2)
  10. 2.3 粒子衝撃による材料評価 / p50 (0030.jp2)
  11. 2.4 第II章のまとめ / p51 (0030.jp2)
  12. 第III章 セラミックスに於ける硬度異方性と特性値との関係 / p55 (0032.jp2)
  13. 3.1 緒言 / p55 (0032.jp2)
  14. 3.2 硬度の定義 / p55 (0032.jp2)
  15. 3.3 セラミックス単結晶における硬度異方性 / p57 (0033.jp2)
  16. 3.4 セラミックスにおける硬度と特性値との関係 / p64 (0037.jp2)
  17. 3.5 第III章のまとめ / p65 (0037.jp2)
  18. 第IV章 炭化珪素によるセラミックスの強靭化 / p75 (0042.jp2)
  19. 4.1 緒言 / p75 (0042.jp2)
  20. 4.2 SiC-whiskerによる正方晶ジルコニアの強靭化 / p75 (0042.jp2)
  21. 4.3 SiC添加による窒化珪素の強靭化 / p82 (0046.jp2)
  22. 4.4 第IV章のまとめ / p93 (0051.jp2)
  23. 第V章 セラミックスの粒子衝撃による損傷 / p111 (0060.jp2)
  24. 5.1 緒言 / p111 (0060.jp2)
  25. 5.2 窒化珪素材料における粒子衝撃損傷 / p112 (0061.jp2)
  26. 5.3 セラミックスの衝撃損傷と特性値との関係 / p120 (0065.jp2)
  27. 5.4 サイアロン素材の粒子衝撃による損傷 / p125 (0067.jp2)
  28. 5.5 クラック形態と強度低下 / p129 (0069.jp2)
  29. 5.6 第V章のまとめ / p131 (0070.jp2)
  30. 第VI章 炭化珪素を複合化した窒化珪素の粒子衝撃による損傷 / p155 (0082.jp2)
  31. 6.1 緒言 / p155 (0082.jp2)
  32. 6.2 SiC-whisker/窒化珪素における衝撃損傷(SiC-whisker添加効果) / p156 (0083.jp2)
  33. 6.3 SiC-whisker/窒化珪素における衝撃損傷(マトリックス窒化珪素の影響) / p160 (0085.jp2)
  34. 6.4 SiCを複合化した窒化珪素の粒子衝撃による損傷 / p164 (0087.jp2)
  35. 6.5 第VI章のまとめ / p168 (0089.jp2)
  36. 第VII章 炭化珪素粒子複合化窒化珪素の粒子衝撃による損傷 / p185 (0097.jp2)
  37. 7.1 緒言 / p185 (0097.jp2)
  38. 7.2 実験方法 / p186 (0098.jp2)
  39. 7.3 実験結果と考察 / p187 (0098.jp2)
  40. 7.4 第VII章のまとめ / p193 (0101.jp2)
  41. 第VIII章 総括 / p203 (0106.jp2)
  42. 本研究の総括 / p203 (0106.jp2)
  43. Appendix / p215 (0112.jp2)
  44. 1.コンピューターによる応力計算 / p215 (0112.jp2)
  45. 本研究に関した公表論文 / p217 (0113.jp2)
  46. 謝辞 / p219 (0114.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000083122
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000083332
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000247436
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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