酸化物高温超電導体を用いた超電導ベース三端子素子に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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酸化物高温超電導体を用いた超電導ベース三端子素子に関する研究
- 著者名
-
臼杵, 辰朗
- 著者別名
-
ウスキ, タツロウ
- 学位授与大学
-
大阪大学
- 取得学位
-
工学博士
- 学位授与番号
-
乙第5624号
- 学位授与年月日
-
1992-02-20
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
- 1-1 超電導三端子素子研究の歴史的背景 / p1 (0007.jp2)
- 1-2 超電導三端子素子の開発の現状 / p2 (0008.jp2)
- 1-3 本研究の目的 / p5 (0011.jp2)
- 1-4 本研究の構成 / p6 (0012.jp2)
- 参考文献 / p8 (0014.jp2)
- 第2章 超電導ベース三端子素子の理論的解析 / p9 (0015.jp2)
- 2-1 序-準粒子注入型超電導ベース三端子素子- / p9 (0015.jp2)
- 2-2 ベース中の準粒子輸送 / p11 (0017.jp2)
- 2-3 ベース/コレクタ界面における準粒子透過の解析 / p22 (0028.jp2)
- 2-4 高周波特性の解析 / p28 (0034.jp2)
- 2-5 結言 / p35 (0041.jp2)
- 参考文献 / p36 (0042.jp2)
- 第3章 酸化物高温超電導体の作製 / p38 (0044.jp2)
- 3-1 序-Bi系酸化物超電導体- / p38 (0044.jp2)
- 3-2 BiSrCaCuO超電導薄膜の作製と評価 / p39 (0045.jp2)
- 3-3 Bi-O/Sr-Ca-Cu-O積層膜によるBSCCO薄膜の作製 / p47 (0053.jp2)
- 3-4 BSCO及びBSCCO単結晶の作製 / p52 (0058.jp2)
- 3-5 結言 / p56 (0062.jp2)
- 参考文献 / p57 (0063.jp2)
- 第4章 エミッタ･ベース接合の作製 / p59 (0065.jp2)
- 4-1 序-SIS接合- / p59 (0065.jp2)
- 4-2 BSCCO単結晶を用いたSISトンネル接合の作製 / p59 (0065.jp2)
- 4-3 Nb/MgO/BSCCOトンネル接合の評価 / p62 (0068.jp2)
- 4-4 結言 / p71 (0077.jp2)
- 参考文献 / p72 (0078.jp2)
- 第5章 ベース･コレクタ接合の作製-分離形成技術- / p74 (0080.jp2)
- 5-1 序-酸化物超電導体における分離形成- / p74 (0080.jp2)
- 5-2 超電導薄膜を用いた分離形成形成技術 / p74 (0080.jp2)
- 5-3 超電導単結晶体を用いた分離形成技術 / p84 (0090.jp2)
- 5-4 結言 / p90 (0096.jp2)
- 参考文献 / p91 (0097.jp2)
- 第6章 超電導ベース三端子素子 / p92 (0098.jp2)
- 6-1 序-超電導ベース三端子素子- / p92 (0098.jp2)
- 6-2 BKBOを用いた超電導ベース三端子素子の作成 / p94 (0100.jp2)
- 6-3 超電導ベース三端子素子の評価 / p101 (0107.jp2)
- 6-4 結言 / p107 (0113.jp2)
- 参考文献 / p109 (0115.jp2)
- 第7章 結論 / p110 (0116.jp2)
- 謝辞 / p114 (0120.jp2)
- 研究業績目録 / p115 (0121.jp2)
