高機能性酸化物薄膜のスパッタ法による作製と電子デバイスへの応用に関する研究

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著者

    • 野村, 幸治 ノムラ, コウジ

書誌事項

タイトル

高機能性酸化物薄膜のスパッタ法による作製と電子デバイスへの応用に関する研究

著者名

野村, 幸治

著者別名

ノムラ, コウジ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5628号

学位授与年月日

1992-02-20

注記・抄録

博士論文

10037

博士(工学)

1992-02-20

大阪大学

14401乙第05628号

目次

  1. 目次 / p4 (0005.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的と意義 / p4 (0008.jp2)
  5. 1.3 本論文の構成 / p5 (0008.jp2)
  6. 参考文献 / p8 (0010.jp2)
  7. 第2章 高機能性酸化物薄膜作製のためのスパッタ技術 / p10 (0011.jp2)
  8. 2.1 緒言 / p10 (0011.jp2)
  9. 2.2 スパッタ技術の概要 / p10 (0011.jp2)
  10. 2.3 複合酸化物薄膜の作製 / p14 (0013.jp2)
  11. 2.4 酸化膜形成における酸化度の向上 / p16 (0014.jp2)
  12. 2.5 結言 / p18 (0015.jp2)
  13. 参考文献 / p19 (0015.jp2)
  14. 第3章 マルチターゲットECRプラズマスパッタ法 / p20 (0016.jp2)
  15. 3.1 緒言 / p20 (0016.jp2)
  16. 3.2 マルチターゲットECRプラズマスパッタ法による Bi₁₂SiO₂₀ 薄膜の作製 / p21 (0016.jp2)
  17. 3.3 Bi₁₂SiO₂₀成長膜の結晶構造解析 / p29 (0020.jp2)
  18. 3.4 Bi₁₂SiO₂₀薄膜の電気的および光学的性質 / p37 (0024.jp2)
  19. 3.5 Bi₁₂SiO₂₀薄膜空間光変調素子 / p46 (0029.jp2)
  20. 3.6 結言 / p48 (0030.jp2)
  21. 参考文献 / p50 (0031.jp2)
  22. 第4章 複合ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法 / p51 (0031.jp2)
  23. 4.1 緒言 / p51 (0031.jp2)
  24. 4.2 複合ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によるAl₂O₃-Ta₂O₅薄膜の作製 / p52 (0032.jp2)
  25. 4.3 Al₂O₃-Ta₂O₅薄膜の電気的性質の組成比依存性 / p57 (0034.jp2)
  26. 4.4 Al₂O₃-Ta₂O₅薄膜物性の作製条件依存性 / p65 (0038.jp2)
  27. 4.5 薄膜トランジスタのゲート絶縁膜としてのAl₂O₃-Ta₂O₅薄膜の評価 / p75 (0043.jp2)
  28. 4.6 結言 / p88 (0050.jp2)
  29. 参考文献 / p89 (0050.jp2)
  30. 第5章 紫外線照射イオンビームスパッタ法 / p91 (0051.jp2)
  31. 5.1 緒言 / p91 (0051.jp2)
  32. 5.2 紫外線照射イオンビームスパッタ法によるSiO₂薄膜の作製 / p92 (0052.jp2)
  33. 5.3 高品質SiO₂薄膜の作製 / p93 (0052.jp2)
  34. 5.4 結言 / p101 (0056.jp2)
  35. 参考文献 / p103 (0057.jp2)
  36. 第6章 高機能性酸化物薄膜の電子デバイスへの応用 / p104 (0058.jp2)
  37. 6.1 緒言 / p104 (0058.jp2)
  38. 6.2 薄膜トランジスタ / p105 (0058.jp2)
  39. 6.3 能動マトリックス駆動方式EL表示装置 / p110 (0061.jp2)
  40. 6.4 TFT走査回路一体型ラインセンサ / p118 (0065.jp2)
  41. 6.5 結言 / p127 (0069.jp2)
  42. 参考文献 / p129 (0070.jp2)
  43. 第7章 結論 / p130 (0071.jp2)
  44. 謝辞 / p133 (0072.jp2)
  45. 研究業績 / p134 (0073.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000084478
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000084690
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000248792
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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