プローブによるプロセス用反応性ガスプラズマの測定に関する研究

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著者

    • 水村, 通伸 ミズムラ, ミチノブ

書誌事項

タイトル

プローブによるプロセス用反応性ガスプラズマの測定に関する研究

著者名

水村, 通伸

著者別名

ミズムラ, ミチノブ

学位授与大学

武蔵工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第26号

学位授与年月日

1992-03-19

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 論文要旨(和文) / (0003.jp2)
  3. 目次 / c1 / (0014.jp2)
  4. 本論文で使用した記号の一覧表 / s1 / (0017.jp2)
  5. 第1章 序論 / p1 (0020.jp2)
  6. §1-1 プロセス用反応性ガスプラズマのプローブ測定に関する研究経緯 / p1 (0020.jp2)
  7. §1-2 プローブ汚染と高周波電解による電流-電圧特性の歪み防止技術 / p5 (0024.jp2)
  8. §1-3 本研究の目的 / p7 (0026.jp2)
  9. §1-4 本論文の構成 / p8 (0027.jp2)
  10. 参考文献 / p10 (0029.jp2)
  11. 第2章 直流放電反応性ガスプラズマのプローブ測定 / p19 (0038.jp2)
  12. §2-1 序言 / p19 (0038.jp2)
  13. §2-2 測定における問題点とその解決法 / p19 (0038.jp2)
  14. §2-3 イオン衝撃高速サンプリングプローブ測定システムによる測定 / p22 (0041.jp2)
  15. §2-4 結語 / p23 (0042.jp2)
  16. 参考文献 / p24 (0043.jp2)
  17. 第3章 プローブによるプラズマ空間電位およびシース電位分布の測定 / p41 (0060.jp2)
  18. §3-1 序言 / p41 (0060.jp2)
  19. §3-2 レーザー加熱型エミッシブプローブ法による測定 / p41 (0060.jp2)
  20. §3-3 電極シース領域への適用 / p43 (0062.jp2)
  21. §3-4 高周波放電プラズマへの適用 / p44 (0063.jp2)
  22. §3-5 高周波放電電極シース領域への適用 / p47 (0066.jp2)
  23. §3-6 結言 / p48 (0067.jp2)
  24. 参考文献 / p50 (0069.jp2)
  25. 第4章 高周波放電プラズマのプローブ測定 / p75 (0094.jp2)
  26. §4-1 序言 / p75 (0094.jp2)
  27. §4-2 高周波放電プラズマ中におけるシングルプローブ法 / p75 (0094.jp2)
  28. §4-3 高周波放電プラズマへの適用 / p78 (0097.jp2)
  29. §4-4 結言 / p78 (0097.jp2)
  30. 参考文献 / p80 (0099.jp2)
  31. 第5章 反応性ガスプラズマによるプローブ表面汚染の定量化と清浄法 / p94 (0113.jp2)
  32. §5-1 序言 / p94 (0113.jp2)
  33. §5-2 プローブの清浄度と測定の信頼性の検討 / p94 (0113.jp2)
  34. §5-3 清浄度によるプローブ清浄化法の評価 / p98 (0117.jp2)
  35. §5-4 結語 / p99 (0118.jp2)
  36. 参考文献 / p100 (0119.jp2)
  37. 第6章 結論 / p113 (0132.jp2)
  38. §6-1 本研究で得られた成果 / p113 (0132.jp2)
  39. §6-2 今後の課題 / p115 (0134.jp2)
  40. 謝辞 / p116 (0135.jp2)
  41. 本研究に関する発表論文 / p117 (0136.jp2)
  42. 付録 高周波放電プラズマ用フィラメント型エミッシブプローブ / AP1-1 / (0138.jp2)
  43. 付録 エミッシブプローブの正弦波応答(シミュレーション) / AP2-1 / (0141.jp2)
  44. 付録 プラズマ空間電位補償型と自己補償型シングルプローブとの比較 / AP3-1 / (0160.jp2)
  45. SPACE POTENTIAL COMPENSATION USING A LASER HEATED EMISSIVE PROBE FOR SINGLE PROBE MEASUREMENT IN RF DISCHARGE PLASMAS / p129 (0165.jp2)
  46. (i) Probe system with bias compensation using a laser heated emissive probe for RF discharge plasma diagnostics / (0169.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000084665
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000084877
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000248979
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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