Theoretical studies on structures and reaction mechanisms of some silicon compounds ケイ素化合物の構造と反応機構に関する理論的研究

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著者

    • 黒崎, 譲 クロサキ, ユズル

書誌事項

タイトル

Theoretical studies on structures and reaction mechanisms of some silicon compounds

タイトル別名

ケイ素化合物の構造と反応機構に関する理論的研究

著者名

黒崎, 譲

著者別名

クロサキ, ユズル

学位授与大学

京都大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第5113号

学位授与年月日

1992-03-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. CONTENTS / p4 (0007.jp2)
  3. PREFACE / p1 (0005.jp2)
  4. CONTENTS / p4 (0007.jp2)
  5. GENERAL INTRODUCTION / p1 (0008.jp2)
  6. PART I.REACTION MECHANISMS OF SILICON NITRIDE AND SILICON OXIDE FORMATIONS / (0012.jp2)
  7. Introduction / p11 (0013.jp2)
  8. Chapter1.Reaction Ergodography for Silicon Nitride Bond Formation in the Laser-Driven Gas-Phase Reaction / p15 (0015.jp2)
  9. Chapter2.Direct Reaction Pathways for Silicon Nitride Bond Formation in the Gas Phase of the SiH₄ and NH₃ Mixture / p47 (0031.jp2)
  10. Chapter3.Reaction Ergodography for Silicon Nitride Bond Formation by the Nitridation of Silicon Dioxide / p75 (0045.jp2)
  11. Chapter4.Stability of the Reaction Path of Silicon Oxide Bond Formation, SiH₄ + H₂O → staggered-SiH₃OH + H₂ / p97 (0056.jp2)
  12. PART II.REACTION MECHANISM OF THERMAL ETCHING OF SILICON / (0062.jp2)
  13. Intoduction / p111 (0063.jp2)
  14. Chapter1.Local Model Calculation for Fluorination Process in Thermal Etching of Si / p113 (0064.jp2)
  15. Chapter2.Local Model Calculation for Fluorination Process in Thermal Etching of Si. II. Calculation for a Larger System / p139 (0077.jp2)
  16. PART III.PHOTOCHEMICAL BEHAVIORS OF SOME DISILANYL-SUBSTITUTED NAPHTHALENES / (0086.jp2)
  17. Introduction / p159 (0087.jp2)
  18. Chapter1.Orbital Interactions in the Photolysis of 1,4-and 1,5-Bis(pentamethyldisilanyl)naphthalene and 1- and 2-(pentamethyldisilanyl)naphthalene / p161 (0088.jp2)
  19. Chapter2.Orbital Interactions in the Photolysis of 2,6-and 2,7-Bis(pentamethyldisilanyl)naphthalene / p181 (0098.jp2)
  20. GENERAL CONCLUSION / p189 (0102.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000085981
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000086195
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000250295
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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