Fe-Al-Si系合金薄膜の磁気特性と構造解析

この論文をさがす

著者

    • 宮崎, 雅弘 ミヤザキ, マサヒロ

書誌事項

タイトル

Fe-Al-Si系合金薄膜の磁気特性と構造解析

著者名

宮崎, 雅弘

著者別名

ミヤザキ, マサヒロ

学位授与大学

長岡技術科学大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第65号

学位授与年月日

1992-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序綸 / p1 (0005.jp2)
  3. §1-1 研究の背景 / p2 (0006.jp2)
  4. §1-2 磁気ヘッド材料 / p5 (0007.jp2)
  5. §1-3 センダスト合金と物性 / p9 (0009.jp2)
  6. §1-4 本研究の目的 / p13 (0011.jp2)
  7. §1-5 本論文の構成 / p13 (0011.jp2)
  8. §1-6 参考文献 / p15 (0012.jp2)
  9. 第2章 実験方法 / p17 (0013.jp2)
  10. §2-1 はじめに / p18 (0014.jp2)
  11. §2-2 薄膜の作製法 / p18 (0014.jp2)
  12. §2-3 熱処理条件 / p19 (0014.jp2)
  13. §2-4 薄膜の評価法 / p22 (0016.jp2)
  14. 2-4-1 膜厚 / p22 (0016.jp2)
  15. 2-4-2 化学分析 / p22 (0016.jp2)
  16. 2-4-3 磁気特性 / p22 (0016.jp2)
  17. 2-4-4 電気抵抗 / p26 (0018.jp2)
  18. 2-4-5 構造分析 / p26 (0018.jp2)
  19. §2-5 内部転換電子メスバウアー分光法 / p28 (0019.jp2)
  20. 2-5-1 原理 / p30 (0020.jp2)
  21. 2-5-2 測定方法 / p34 (0022.jp2)
  22. §2-6 参考文献 / p36 (0023.jp2)
  23. 第3章 Fe-Si合金薄膜における磁気的、電気的特性と規則化挙動 / p37 (0023.jp2)
  24. §3-1 はじめに / p38 (0024.jp2)
  25. §3-2 薄膜の形成法 / p39 (0024.jp2)
  26. §3-3 実験結果 / p39 (0024.jp2)
  27. 3-3-1 X線回折によるFe-Si膜の構造解析 / p39 (0024.jp2)
  28. 3-3-2 Fe-Si膜の磁気特性 / p45 (0027.jp2)
  29. 3-3-3 Fe-Si膜の電気特性 / p47 (0028.jp2)
  30. 3-3-4 Fe-Si膜のメスバウアースペクトル / p52 (0031.jp2)
  31. §3-4 考察 / p62 (0036.jp2)
  32. 3-4-1 FegSi型規則構造の形成におけるSi濃度の効果 / p62 (0036.jp2)
  33. 3-4-2 FegSi型規則構造の電子状態 / p64 (0037.jp2)
  34. §3-5 まとめ / p70 (0040.jp2)
  35. §3-6 参考文献 / p71 (0040.jp2)
  36. 第4章 Fe-Al合金薄膜における磁気的、電気的特性と規則化挙動 / p73 (0041.jp2)
  37. §4-1 はじめに / p74 (0042.jp2)
  38. §4-2 薄膜の形成法 / p75 (0042.jp2)
  39. §4-3 実験結果 / p75 (0042.jp2)
  40. 4-3-1 X線回折によるFe-AI膜の構造解析 / p75 (0042.jp2)
  41. 4-3-2 Fe-AI膜の磁気特性 / p82 (0046.jp2)
  42. 4-3-3 Fe-AI膜の電気特性 / p84 (0047.jp2)
  43. 4-3-4 Fe-AI膜のメスバウアースペクトル / p87 (0048.jp2)
  44. §4-4 考察 / p89 (0049.jp2)
  45. §4-5 まとめ / p91 (0050.jp2)
  46. §4-6 参考文献 / p92 (0051.jp2)
  47. 第5章 Fe-Al-Si合金薄膜の微細構造と磁気特性 / p93 (0051.jp2)
  48. §5-1 はじめに / p94 (0052.jp2)
  49. §5-2 薄膜の形成法 / p96 (0053.jp2)
  50. §5-3 実験結果 / p96 (0053.jp2)
  51. 5-3-1 センダスト薄膜の磁気特性と電気特性 / p96 (0053.jp2)
  52. 5-3-2 センダスト薄膜のメスバウアースペクトル / p101 (0055.jp2)
  53. 5-3-2 センダスト薄膜のメスバウアースペクトル / p101 (0055.jp2)
  54. §5-4 考察 / p103 (0056.jp2)
  55. 5-4-1 センダスト薄膜の熱処理に伴う構造変化 / p103 (0056.jp2)
  56. 5-4-2 磁気特性と構造変化の関係 / p112 (0061.jp2)
  57. §5-5 まとめ / p114 (0062.jp2)
  58. §5-6 参考文献 / p115 (0062.jp2)
  59. 第6章 Fe-Al-Si-Ni合金薄膜の作製および特性評価と構造変化 / p117 (0063.jp2)
  60. §6-1 はじめに / p118 (0064.jp2)
  61. §6-2 薄膜の形成法 / p119 (0064.jp2)
  62. §6-3 実験結果 / p120 (0065.jp2)
  63. 6-3-1 スーパーセンダスト薄膜の磁気特性 / p120 (0065.jp2)
  64. 6-3-2 スーパーセンダスト薄膜の電気抵抗 / p126 (0068.jp2)
  65. 6-3-3 スーパーセンダスト薄膜のX線回折とSIMS分析 / p129 (0069.jp2)
  66. 6-3-4 スーパーセンダスト薄膜のメスバウアースペクトル / p133 (0071.jp2)
  67. §6-4 考察 / p136 (0073.jp2)
  68. 6-4-1 スーパーセンダスト薄膜の熱処理に伴う構造変化 / p136 (0073.jp2)
  69. 6-4-2 スーパーセンダスト薄膜の構造モデル / p147 (0078.jp2)
  70. §6-5 まとめ / p153 (0081.jp2)
  71. §6-6 参考文献 / p154 (0082.jp2)
  72. 第7章 結論 / p155 (0082.jp2)
  73. 謝辞 / p160 (0085.jp2)
  74. 本研究に関する発表論文 / p163 (0086.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000086117
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000086331
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000250431
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ