WO[3]薄膜の光インターカレーション効果

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著者

    • 長洲, 正浩 ナガス, マサヒロ

書誌事項

タイトル

WO[3]薄膜の光インターカレーション効果

著者名

長洲, 正浩

著者別名

ナガス, マサヒロ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第19号

学位授与年月日

1992-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. -目次- / (0008.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0011.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0011.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的と現状 / p3 (0013.jp2)
  5. -参考文献- / p5 (0015.jp2)
  6. 第2章 光インターカレーション効果 / p6 (0016.jp2)
  7. 2.1 インターカレーション / p6 (0016.jp2)
  8. 2.2 遷移金属酸化物とインターカレーション / p6 (0016.jp2)
  9. 2.3 三酸化タングステンWO₃のインターカレーション反応 / p8 (0018.jp2)
  10. 2.4 光インターカレーション効果 / p10 (0020.jp2)
  11. - 参考文献 - / p13 (0023.jp2)
  12. 第3章 基礎特性 / p14 (0024.jp2)
  13. 3.1 はじめに / p14 (0024.jp2)
  14. 3.2 溶液の選定 / p14 (0024.jp2)
  15. 3.3 実験方法 / p15 (0025.jp2)
  16. 3.4 実験結果と考察 / p24 (0034.jp2)
  17. 3.5 まとめ / p39 (0049.jp2)
  18. -参考文献- / p40 (0050.jp2)
  19. 第4章 理論解析 / p41 (0051.jp2)
  20. 4.1 はじめに / p41 (0051.jp2)
  21. 4.2 前提条件 / p42 (0052.jp2)
  22. 4.3 エタノールの酸化反応が律速過程である場合 / p45 (0055.jp2)
  23. 4.4 プロトンの内部拡散が律速過程である場合 / p47 (0057.jp2)
  24. 4.5 理論式と実験結果との比較 / p49 (0059.jp2)
  25. 4.6 まとめ / p60 (0070.jp2)
  26. -参考文献- / p60 (0070.jp2)
  27. 第5章 光応答速度の改善 / p61 (0071.jp2)
  28. 5.1 はじめに / p61 (0071.jp2)
  29. 5.2 基板温度依存性 / p62 (0072.jp2)
  30. 5.3 膜厚依存性 / p70 (0080.jp2)
  31. 5.4 光強度・印加電圧依存性 / p73 (0083.jp2)
  32. 5.5 まとめ / p77 (0087.jp2)
  33. -参考文献- / p78 (0088.jp2)
  34. 第6章 応用の基礎的検討 / p79 (0089.jp2)
  35. 6.1 はじめに / p79 (0089.jp2)
  36. 6.2 透過率を用いた情報検出(空間光変調器) / p80 (0090.jp2)
  37. 6.3 接合特性を用いた情報検出 / p81 (0091.jp2)
  38. 6.4 交流信号を用いた情報検出 / p84 (0094.jp2)
  39. 6.5 他の応用例 / p95 (0105.jp2)
  40. 6.6 まとめ / p99 (0109.jp2)
  41. -参考文献- / p100 (0110.jp2)
  42. 第7章 結論 / p101 (0111.jp2)
  43. 謝辞 / p105 (0115.jp2)
  44. 本研究に関する発表論文 / p106 (0116.jp2)
  45. 本研究に関する口頭発表 / p106 (0116.jp2)
  46. 付録1-プロトン生成に関する反応速度式の解法- / p108 (0118.jp2)
  47. 付録2-拡散方程式の解法- / p110 (0120.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000086870
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000087085
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000251184
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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