Ag系多層膜の作製と構造評価

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著者

    • 挟間, 克樹 ハザマ, カツキ

書誌事項

タイトル

Ag系多層膜の作製と構造評価

著者名

挟間, 克樹

著者別名

ハザマ, カツキ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第2409号

学位授与年月日

1992-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
  3. 第1節 金属多層膜について / p2 (0008.jp2)
  4. 第2節 本研究の背景と目的 / p4 (0010.jp2)
  5. 第3節 本論文の構成 / p7 (0013.jp2)
  6. 【参考文献】 / p9 (0015.jp2)
  7. 第2章 金属多層膜の作製方法 / p13 (0019.jp2)
  8. 第1節 緒言 / p14 (0020.jp2)
  9. 第2節 多層膜作製装置 / p15 (0021.jp2)
  10. 1.蒸着装置の概略 / p15 (0021.jp2)
  11. 2.ハード・ウェア / p19 (0025.jp2)
  12. 3.ソフト・ウェア / p24 (0030.jp2)
  13. 第3節 試料作製の手順および作製条件 / p32 (0038.jp2)
  14. 1.作製の手順 / p32 (0038.jp2)
  15. 2.作製条件 / p32 (0038.jp2)
  16. 第4節 まとめ / p33 (0039.jp2)
  17. 【参考文献】 / p34 (0040.jp2)
  18. 第3章 Ag/Cu多層膜の作製と理想構造モデルによる構造解析 / p35 (0041.jp2)
  19. 第1節 緒言 / p36 (0042.jp2)
  20. 第2節 構造モデルの理論計算 / p39 (0045.jp2)
  21. 1.一次元構造モデル / p39 (0045.jp2)
  22. 2.理想構造モデル / p41 (0047.jp2)
  23. 第3節 X線回折プロファイルの特徴 / p45 (0051.jp2)
  24. 1.Ag単層膜とCu単層膜 / p45 (0051.jp2)
  25. 2.室温蒸着Ag/Cu多層膜 / p50 (0056.jp2)
  26. 3.低温蒸着Ag/Cu多層膜 / p50 (0056.jp2)
  27. 第4節 理想構造モデルによる構造解析 / p57 (0063.jp2)
  28. 1.解析方法 / p57 (0063.jp2)
  29. 2.低温蒸着膜の解析結果 / p60 (0066.jp2)
  30. 第5節 スパッタリング膜との比較 / p65 (0071.jp2)
  31. 1.スパッタリング法による作製方法 / p65 (0071.jp2)
  32. 2.測定結果 / p65 (0071.jp2)
  33. 3.解析結果 / p68 (0074.jp2)
  34. 第6節 考察 / p69 (0075.jp2)
  35. 1.作製条件による違いについて / p69 (0075.jp2)
  36. 2.理想構造モデルによる構造解析について / p72 (0078.jp2)
  37. 第7節 まとめ / p73 (0079.jp2)
  38. 【参考文献】 / p74 (0080.jp2)
  39. 第4章 Ag/Pb多層膜の作製と乱れた構造モデルによる構造評価 / p76 (0082.jp2)
  40. 第1節 緒言 / p77 (0083.jp2)
  41. 第2節 実験結果 / p78 (0084.jp2)
  42. 1.蒸着量の制御性 / p78 (0084.jp2)
  43. 2.Pb単層膜の特徴 / p79 (0085.jp2)
  44. 3.基板温度によるX線回折プロファイルの特徴 / p83 (0089.jp2)
  45. 4.周期によるX線回折プロファイルの特徴 / p83 (0089.jp2)
  46. 5.組成によるX線回折プロファイルの特徴 / p84 (0090.jp2)
  47. 6.Ag/Pb多層膜の時効変化 / p84 (0090.jp2)
  48. 第3節 理想構造モデルによる構造評価 / p91 (0097.jp2)
  49. 1.低角域のピーク / p91 (0097.jp2)
  50. 2.中角域のピークの強度分布 / p94 (0100.jp2)
  51. 3.ピークの位置 / p98 (0104.jp2)
  52. 4.ピークの半価幅 / p99 (0105.jp2)
  53. 5.X線回折プロファイル解析のために / p99 (0105.jp2)
  54. 第4節 乱れた構造モデルによる構造評価 / p99 (0105.jp2)
  55. 1.はじめに / p99 (0105.jp2)
  56. 2.構造的な乱れの考え方 / p100 (0106.jp2)
  57. 3.計算方法 / p103 (0109.jp2)
  58. 4.シミュレーション結果 / p106 (0112.jp2)
  59. 第5節 考察 / p117 (0123.jp2)
  60. 1.蒸着量の制御性と多層膜の構造について / p117 (0123.jp2)
  61. 2.乱れた構造モデルについて / p117 (0123.jp2)
  62. 3.Ag/Pb多層膜の構造について / p120 (0126.jp2)
  63. 第6節 まとめ / p120 (0126.jp2)
  64. 【参考文献】 / p121 (0127.jp2)
  65. 第5章 多層膜の電気抵抗in-situ測定 / p122 (0128.jp2)
  66. 第1節 緒言 / p123 (0129.jp2)
  67. 第2節 測定方法 / p124 (0130.jp2)
  68. 第3節 実験結果および考察 / p126 (0132.jp2)
  69. 1.単層膜の電気抵抗 / p126 (0132.jp2)
  70. 2.多層膜の電気抵抗 / p134 (0140.jp2)
  71. 3.二層膜の電気抵抗 / p139 (0145.jp2)
  72. 4.Ag/Pb多層膜の作製後の変化 / p142 (0148.jp2)
  73. 第4節 まとめ / p145 (0151.jp2)
  74. 【参考文献】 / p146 (0152.jp2)
  75. 第6章 総括 / p147 (0153.jp2)
  76. 謝辞 / (0157.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000088343
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000088562
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000252657
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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