ケイ素化合物特有の反応を用いた新規縮合系高分子の作製に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
-
ケイ素化合物特有の反応を用いた新規縮合系高分子の作製に関する研究
- Author
-
森川, 敦司
- Author(Another name)
-
モリカワ, アツシ
- University
-
東京工業大学
- Types of degree
-
工学博士
- Grant ID
-
甲第2414号
- Degree year
-
1992-03-26
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 論文目録 / (0002.jp2)
- 目次 / (0004.jp2)
- 第1章 1-1 はじめに / p1 (0007.jp2)
- 1-2 有機ケイ素化合物の反応性 / p1 (0007.jp2)
- 1-3 スターバーストポリマーの合成 / p4 (0010.jp2)
- 1-4 ゾルーゲル法による有機-無機複合体の作製 / p9 (0015.jp2)
- 1-4 本研究の目的と概要 / p13 (0019.jp2)
- 第2章 発散型合成法によるスターバーストポリシロキサンの合成 / p21 (0027.jp2)
- 2-1 緒言 / p21 (0027.jp2)
- 2-2 結果と考察 / p22 (0028.jp2)
- 2-3 実験の部 / p38 (0044.jp2)
- 2-4 2章のまとめ / p43 (0049.jp2)
- 第3章 スターバーストポリシロキサン最外核部の官能基化 / p46 (0052.jp2)
- 3-1 緒言 / p46 (0052.jp2)
- 3-2 結果と考察 / p46 (0052.jp2)
- 3-3 実験の部 / p56 (0062.jp2)
- 3-4 3章のまとめ / p62 (0068.jp2)
- 第4章 収れん型合成法によるシロキサン単位を有するスターバーストポリマーの合成 / p64 (0070.jp2)
- 4-1 緒言 / p64 (0070.jp2)
- 4-2 結果と考察 / p66 (0072.jp2)
- 4-3 実験の部 / p80 (0086.jp2)
- 4-4 4章のまとめ / p88 (0094.jp2)
- 第5章 ゾルーゲル法による反応点を持たないポリイミドとシリカの複合体の作製 / p90 (0096.jp2)
- 5-1 緒言 / p90 (0096.jp2)
- 5-2 結果と考察 / p91 (0097.jp2)
- 5-3 実験の部 / p113 (0119.jp2)
- 5-4 5章のまとめ / p115 (0121.jp2)
- 第6章 ゾルーゲル法による側鎖にエトキシシリル基(反応点)を有するポリイミドとシリカの複合体の作製 / p117 (0123.jp2)
- 6-1 緒言 / p117 (0123.jp2)
- 6-2 結果と考察 / p118 (0124.jp2)
- 6-3 実験の部 / p140 (0146.jp2)
- 6-4 6章のまとめ / p148 (0154.jp2)
- 第7章 ゾルーゲル法による主鎖にエトキシシリル基を有するポリイミドとシリカの複合体の作製 / p150 (0156.jp2)
- 7-1 緒言 / p150 (0156.jp2)
- 7-2 結果と考察 / p151 (0157.jp2)
- 7-3 実験の部 / p164 (0170.jp2)
- 7-4 7章のまとめ / p168 (0174.jp2)
- 第8章 結論 / p170 (0176.jp2)
- 8-1 本論文の総括 / p170 (0176.jp2)
- 8-2 本研究の考察 / p172 (0178.jp2)
- 口頭発表 / p178 (0184.jp2)
- 投稿論文 / p180 (0186.jp2)
- 謝辞 / p180 (0186.jp2)