一酸化炭素を原料とするダイヤモンド薄膜の気相合成と応用技術

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著者

    • 斎藤, 幸雄 サイトウ, ユキオ

書誌事項

タイトル

一酸化炭素を原料とするダイヤモンド薄膜の気相合成と応用技術

著者名

斎藤, 幸雄

著者別名

サイトウ, ユキオ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第2282号

学位授与年月日

1991-11-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第1章 研究の背景と目的 / p1 (0006.jp2)
  4. 第2章 原料ガス系の探索 / p13 (0018.jp2)
  5. 2.1 緒言 / p13 (0018.jp2)
  6. 2.2 実験装置及び実験方法 / p14 (0019.jp2)
  7. 2.3 実験結果及び考察 / p18 (0023.jp2)
  8. 2.4 まとめ / p48 (0053.jp2)
  9. 第3章 生成機構の検討 / p49 (0054.jp2)
  10. 3.1 緒言 / p49 (0054.jp2)
  11. 3.2 実験装置及び実験方法 / p51 (0056.jp2)
  12. 3.3 実験結果及び考察 / p56 (0061.jp2)
  13. 3.4 まとめ / p75 (0080.jp2)
  14. 第4章 ダイヤモンド膜の特性評価 / p76 (0081.jp2)
  15. 4.1 緒言 / p76 (0081.jp2)
  16. 4.2 実験装置及び実験方法 / p78 (0083.jp2)
  17. 4.3 実験結果及び考察 / p82 (0087.jp2)
  18. 4.4 まとめ / p94 (0099.jp2)
  19. 第5章 基板材料の検討 / p96 (0101.jp2)
  20. 5.1 緒言 / p96 (0101.jp2)
  21. 5.2 実験装置及び実験方法 / p97 (0102.jp2)
  22. 5.3 実験結果及び考察 / p99 (0104.jp2)
  23. 5.4 まとめ / p113 (0118.jp2)
  24. 第6章 コーティング工具への応用 / p114 (0119.jp2)
  25. 6.1 緒言 / p114 (0119.jp2)
  26. 6.2 実験装置及び実験方法 / p119 (0124.jp2)
  27. 6.3 実験結果及び考察 / p121 (0126.jp2)
  28. 6.4 まとめ / p133 (0138.jp2)
  29. 第7章 本研究の結言 / p134 (0139.jp2)
  30. 参考文献 / p137 (0142.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000088531
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000088750
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000252845
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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