レーザーMBE法によるセラミックス薄膜のエピタキシャル成長と積層化に関する研究

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著者

    • 永田, 裕俊 ナガタ, ヒロトシ

書誌事項

タイトル

レーザーMBE法によるセラミックス薄膜のエピタキシャル成長と積層化に関する研究

著者名

永田, 裕俊

著者別名

ナガタ, ヒロトシ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3344号

学位授与年月日

1992-03-31

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 要旨 / (0004.jp2)
  3. 目次 / p1 (0006.jp2)
  4. 第1章 緒論 / p1 (0008.jp2)
  5. 1.1. 緒言 / p1 (0008.jp2)
  6. 1.2. 本研究の意義 / p2 (0009.jp2)
  7. 1.3. 本論文の概要 / p4 (0010.jp2)
  8. 参考文献 / p7 (0011.jp2)
  9. 第2章 レーザーMBEによるセラミックス薄膜の作製 / p10 (0013.jp2)
  10. 2.1. 緒言 / p10 (0013.jp2)
  11. 2.2. レーザーMBE法の特徴 / p11 (0013.jp2)
  12. 2.3. MBE条件下でのセラミックス薄膜の酸化 / p21 (0018.jp2)
  13. 2.4. 薄膜成長過程の分析 / p32 (0024.jp2)
  14. 2.5. X線回折(XRD)による膜構造の評価 / p40 (0028.jp2)
  15. 2.6. まとめ / p40 (0028.jp2)
  16. 参考文献 / p40 (0028.jp2)
  17. 第3章 Si基板上へのセラミックス薄膜のヘテロ接合と界面評価 / p47 (0031.jp2)
  18. 3.1. 緒言 / p47 (0031.jp2)
  19. 3.2. CeO₂薄膜の作製---ホタル石型構造 / p48 (0032.jp2)
  20. 3.3. Nd₂O₃薄膜の作製---ホタル石型構造 / p92 (0054.jp2)
  21. 3.4. SrTiO₃薄膜の作製---ペロブスカイト型構造 / p97 (0056.jp2)
  22. 3.5. SrV0₃薄膜の作製---ペロブスカイト型構造 / p106 (0061.jp2)
  23. 3.6. BaTiO₃薄膜の作製---ペロブスカイト型構造 / p112 (0064.jp2)
  24. 3.7. GaAs(001)基板上へのCeO₂薄膜の成長 / p116 (0066.jp2)
  25. 3.8. Siとセラミックスのヘテロ接合 / p121 (0068.jp2)
  26. 3.9. まとめ / p127 (0071.jp2)
  27. 参考文献 / p127 (0071.jp2)
  28. 第4章 (CuO₂)²­⁻無限層構造を有する「アルカリ土類-銅酸化物」薄膜の合成 / p133 (0074.jp2)
  29. 4.1. 緒言 / p133 (0074.jp2)
  30. 4.2. (Ca,Sr)CuO₂薄膜の合成 / p134 (0075.jp2)
  31. 4.3. SrCuO₂薄膜の合成 / p141 (0078.jp2)
  32. 4.4. BaCuO₂薄膜の合成 / p165 (0090.jp2)
  33. 4.5. (CuO₂)²⁻無限層構造を有する新物質構築の可能性 / p171 (0093.jp2)
  34. 4.6. まとめ / p175 (0095.jp2)
  35. 参考文献 / p175 (0095.jp2)
  36. 第5章 セラミックス超格子の作製と特性評価 / p178 (0097.jp2)
  37. 5.1. 緒言 / p178 (0097.jp2)
  38. 5.2. SrVO₃エピタキシャル薄膜 / p179 (0097.jp2)
  39. 5.3. SrTiO₃エピタキシャル薄膜 / p192 (0104.jp2)
  40. 5.4. SrVO₃/SrTiO₃超格子 / p198 (0107.jp2)
  41. 5.5. CeO₂/SrVO₃超格子 / p212 (0114.jp2)
  42. 5.6. 原子層制御セラミックス超格子作製の課題 / p217 (0116.jp2)
  43. 5.7. まとめ / p217 (0116.jp2)
  44. 参考文献 / p217 (0116.jp2)
  45. 第6章 総括---「セラミックス格子工学」 / p219 (0117.jp2)
  46. 付録 プラズマ制御型スパッタリング法による酸化物超伝導体薄膜の作製 / p223 (0119.jp2)
  47. 付.1. 緒言 / p223 (0119.jp2)
  48. 付.2. 酸化物高温超伝導体と人工超格子 / p224 (0120.jp2)
  49. 付.3. プラズマ制御型スパッタリング法の特徴 / p228 (0122.jp2)
  50. 付.4. Bi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の作製 / p233 (0124.jp2)
  51. 付.5.まとめ / p247 (0131.jp2)
  52. 参考文献 / p247 (0131.jp2)
  53. 発表論文リスト / p251 (0133.jp2)
  54. 謝辞 / p256 (0136.jp2)
  55. 補遺 / p257 (0136.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000088593
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000088812
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000252907
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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