A theoretical study on the structures and reactivities of silicon and related compounds ケイ素ならびに関連化合物の構造と反応性に関する理論的研究

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著者

    • 川内, 進 カワウチ, ススム

書誌事項

タイトル

A theoretical study on the structures and reactivities of silicon and related compounds

タイトル別名

ケイ素ならびに関連化合物の構造と反応性に関する理論的研究

著者名

川内, 進

著者別名

カワウチ, ススム

学位授与大学

京都大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第7917号

学位授与年月日

1992-07-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. Contents / p3 (0005.jp2)
  3. Preface / p1 (0004.jp2)
  4. General Introduction / p1 (0006.jp2)
  5. Part I.Structures and Reactivities of Silicon Compounds / p5 (0008.jp2)
  6. Introduction / p7 (0009.jp2)
  7. Chapter1.Bond Nature and Reactivity of Silicon Compounds / p9 (0010.jp2)
  8. Chapter2.Electronic Processes in Silicon Etching Reaction / p31 (0021.jp2)
  9. Chapter3.Etching Reaction Mechanism for p-Doped Silicon / p51 (0031.jp2)
  10. Chapter4.Etching Reaction Mechanism for n-Doped Silicon / p79 (0045.jp2)
  11. Part II.Mechanisms of Ion-Molecule Reactions / p103 (0057.jp2)
  12. Introduction / p105 (0058.jp2)
  13. Chapter1.Role of Charge Transfer for the Vibrational-Mode Specific Chemical Reaction of NH₃⁺(v)and NH₃ / p107 (0059.jp2)
  14. Chapter2.Charge Transfer Processes of the Ion-Molecule Reactions:NH₃⁺with NH₃,H₂O,and HF / p131 (0071.jp2)
  15. Chapter3.Ion-Molecule Reactions between SiH₃⁺and NH₃ / p143 (0077.jp2)
  16. Chapter4.Ion-Molecule Reactions of SiH₄-CH₄ System / p161 (0086.jp2)
  17. Part III.Solvation Effects on Chemical Reactions / p173 (0092.jp2)
  18. Introduction / p175 (0093.jp2)
  19. Chapter1.Solvation Effect of Formaldehyde Hydration Reaction / p177 (0094.jp2)
  20. Chapter2.Catalytic Role of Ancillary Water Molecule for the Hydrolysis of Formamide / p193 (0102.jp2)
  21. General Conclusion / p203 (0107.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000089245
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000089465
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000253559
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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