プラズマCVD法による鉄鋼材料への硬質低摩擦膜の形成 プラズマ CVDホウ ニヨル テッコウ ザイリョウ エノ コウシツ テイマサツマク ノ ケイセイ 

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著者

    • 小栗, 和幸 オグリ, カズユキ

書誌事項

タイトル

プラズマCVD法による鉄鋼材料への硬質低摩擦膜の形成

タイトル別名

プラズマ CVDホウ ニヨル テッコウ ザイリョウ エノ コウシツ テイマサツマク ノ ケイセイ 

著者名

小栗, 和幸

著者別名

オグリ, カズユキ

学位授与大学

名古屋工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第42号

学位授与年月日

1992-09-10

注記・抄録

博士論文

乙第042号 主査:浅野 滋

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1-1 本研究の意義および目的 / p1 (0006.jp2)
  4. 1-2 プラズマCVD法の概略 / p4 (0008.jp2)
  5. 1-3 従来の研究 / p9 (0010.jp2)
  6. 1-4 本論文の構成 / p12 (0012.jp2)
  7. 図表 / p14 (0013.jp2)
  8. 第2章 硬質TiN膜の形成 / p19 (0015.jp2)
  9. 2-1 TiN膜の硬度に及ぼす成膜温度の影響 / p19 (0015.jp2)
  10. 図表 / p28 (0020.jp2)
  11. 2-2 TiN膜の性質に及ぼすN₂/TiCℓ₄ガス流量比の影響 / p35 (0023.jp2)
  12. 図表 / p45 (0028.jp2)
  13. 2-3 TiN膜の硬度に及ぼす含有Cℓの放出の影響 / p54 (0033.jp2)
  14. 図表 / p60 (0036.jp2)
  15. 第3章 硬質TiC膜の形成 / p66 (0039.jp2)
  16. 3-1 TiC膜の硬度に及ぼす含有Cℓ量の影響-TiN膜との比較- / p66 (0039.jp2)
  17. 図表 / p72 (0042.jp2)
  18. 3-2 TiC膜の硬度に及ぼす過剰C量の影響 / p79 (0045.jp2)
  19. 図表 / p85 (0048.jp2)
  20. 第4章 硬質低摩擦DLC-Si膜の形成 / p93 (0052.jp2)
  21. 4-1 アモルファスSi-C膜の形成 / p93 (0052.jp2)
  22. 図表 / p101 (0056.jp2)
  23. 4-2 アモルファスSi-C膜の摩擦摩耗特性 / p110 (0061.jp2)
  24. 図表 / p118 (0065.jp2)
  25. 4-3 DLC-Si膜の摩擦係数に及ぼす含有元素(H,Cℓ)および含有Cの結合状態の影響 / p129 (0070.jp2)
  26. 図表 / p138 (0075.jp2)
  27. 4-4 DLC-Si膜の摩擦係数の雰囲気依存性と低摩擦要因の検討 / p151 (0081.jp2)
  28. 図表 / p161 (0086.jp2)
  29. 4-5 DLC-Si膜の密着性向上および低温形成の試み / p172 (0092.jp2)
  30. 図表 / p179 (0095.jp2)
  31. 第5章 総括 / p187 (0099.jp2)
  32. 参考文献 / p192 (0102.jp2)
  33. 本研究に関する公表論文と関連する章 / p201 (0106.jp2)
  34. 謝辞 / p202 (0107.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000089940
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000090161
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000254254
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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