半導体フォトリソグラフィにおける微細パターン形成に関する研究

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著者

    • 遠藤, 政孝 エンドウ, マサユキ

書誌事項

タイトル

半導体フォトリソグラフィにおける微細パターン形成に関する研究

著者名

遠藤, 政孝

著者別名

エンドウ, マサユキ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第5797号

学位授与年月日

1992-09-22

注記・抄録

博士論文

10405

博士(工学)

1992-09-22

大阪大学

14401乙第05797号

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1.本研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2.本研究の目的 / p2 (0006.jp2)
  5. 1.3.本論文の構成 / p3 (0006.jp2)
  6. 第2章 フォトリソグラフィの現状と問題点 / p4 (0007.jp2)
  7. 2.1.はじめに / p4 (0007.jp2)
  8. 2.2.フォトリソグラフィの原理 / p4 (0007.jp2)
  9. 2.3.フォトリソグラフィの現状と将来 / p8 (0009.jp2)
  10. 2.4.第2章のまとめ / p10 (0010.jp2)
  11. 第3章 コントラスト・エンハンスト・リソグラフィ(CEL) / p11 (0010.jp2)
  12. 3.1.はじめに / p11 (0010.jp2)
  13. 3.2.CELの原理 / p11 (0010.jp2)
  14. 3.3.CELの研究動向 / p12 (0011.jp2)
  15. 3.4.g線用水溶性CEL材料を用いたリソグラフィ / p16 (0013.jp2)
  16. 3.5.i線用水溶性CEL材料を用いたリソグラフィ / p49 (0029.jp2)
  17. 3.6.シミュレーションによるCELの解析 / p79 (0044.jp2)
  18. 3.7.第3章のまとめ / p96 (0053.jp2)
  19. 第4章 高解像度レジストプロセス / p97 (0053.jp2)
  20. 4.1.はじめに / p97 (0053.jp2)
  21. 4.2.微細パターン形成技術の動向 / p97 (0053.jp2)
  22. 4.3.二重露光法(DEM) / p101 (0055.jp2)
  23. 4.4.二重露光法(DEM)によるレジスト断面形状の解析 / p121 (0065.jp2)
  24. 4.5.アルカリ表面処理法(HARD) / p140 (0075.jp2)
  25. 4.6.レジストパターンの遠紫外線処理技術 / p148 (0079.jp2)
  26. 4.7.第4章のまとめ / p160 (0085.jp2)
  27. 第5章 エキシマレーザ・リソグラフィ / p161 (0085.jp2)
  28. 5.1.はじめに / p161 (0085.jp2)
  29. 5.2.エキシマレーザ・リソグラフィの研究動向 / p162 (0086.jp2)
  30. 5.3.エキシマレーザ・ステッパの構築技術 / p167 (0088.jp2)
  31. 5.4.エキシマレーザによるレジスト評価 / p184 (0097.jp2)
  32. 5.5.エキシマレーザを用いたPCM法 / p204 (0107.jp2)
  33. 5.6.エキシマレーザを用いた多層レジスト法 / p211 (0110.jp2)
  34. 5.7.エキシマレーザ・リソグラフィヘのCELの応用 / p219 (0114.jp2)
  35. 5.8.エキシマレーザ・レジストの開発 / p231 (0120.jp2)
  36. 5.9.エキシマレーザ・リソグラフィとi線リソグラフィの比較 / p241 (0125.jp2)
  37. 5.10.第5章のまとめ / p247 (0128.jp2)
  38. 第6章 結論 / p248 (0129.jp2)
  39. 6.1.本研究の結論 / p248 (0129.jp2)
  40. 6.2.今後の展望 / p249 (0129.jp2)
  41. 謝辞 / p250 (0130.jp2)
  42. 参考文献 / p251 (0130.jp2)
  43. 本研究に関する発表論文 / p262 (0136.jp2)
  44. 本研究に関する学会発表 / p265 (0137.jp2)
  45. 本研究に関する参考発表論文 / p270 (0140.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000090681
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000090902
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000254995
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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