Characterization and applications of high density oxygen plasma downstream 高密度酸素プラズマ流の評価と応用

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著者

    • Sunil Wickramanayaka, Senarath Wickramanayaka Mudiyanselage スニル ウィクラマナヤカ, セナラト ウィクラマナヤカ ムディヤンセラゲ

書誌事項

タイトル

Characterization and applications of high density oxygen plasma downstream

タイトル別名

高密度酸素プラズマ流の評価と応用

著者名

Sunil Wickramanayaka, Senarath Wickramanayaka Mudiyanselage

著者別名

スニル ウィクラマナヤカ, セナラト ウィクラマナヤカ ムディヤンセラゲ

学位授与大学

静岡大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第77号

学位授与年月日

1992-10-23

注記・抄録

博士論文

doctoral

電子科学研究科

甲第77号

目次

  1. Abstract / p7 (0005.jp2)
  2. Contents / p11 (0007.jp2)
  3. 1.Nature and History of man made plasma / p1 (0009.jp2)
  4. 1.1 Introduction / p1 (0009.jp2)
  5. 1.2 Nature of Plasma / p3 (0010.jp2)
  6. 1.3 History of man made plasma / p6 (0012.jp2)
  7. References / p8 (0013.jp2)
  8. 2.Theory and instrumentation for high density state plasma / p10 (0014.jp2)
  9. 2.1 High frequency discharges / p10 (0014.jp2)
  10. 2.2 High density state of plasmas / p12 (0015.jp2)
  11. 2.3 Instrumentation for high density plasma / p16 (0017.jp2)
  12. References / p19 (0018.jp2)
  13. 3.Characterization and properties of high density oxygen plasma downstream / p20 (0019.jp2)
  14. 3.1 Introduction / p20 (0019.jp2)
  15. 3.2 Experimental / p27 (0022.jp2)
  16. 3.3 Results and discussion / p34 (0026.jp2)
  17. 3.4 Conclusions / p53 (0035.jp2)
  18. References / p54 (0036.jp2)
  19. 4.Measurements of downstream gas temperature variation / p56 (0037.jp2)
  20. 4.1 Introduction / p56 (0037.jp2)
  21. 4.2 Theory of gas temperature calculations / p57 (0037.jp2)
  22. 4.3 Experimental / p60 (0039.jp2)
  23. 4.4 Results and discussion / p61 (0039.jp2)
  24. 4.5 Conclusions / p69 (0043.jp2)
  25. References / p70 (0044.jp2)
  26. 5.Measurements of catalytic efficiency of surfaces for the removal of atomic oxygen using [化学式] continuum / p71 (0044.jp2)
  27. 5.1 Introduction / p71 (0044.jp2)
  28. 5.2 Method / p73 (0045.jp2)
  29. 5.3 Experimental / p77 (0047.jp2)
  30. 5.4 Results and discussion / p80 (0049.jp2)
  31. 5.5 Conclusions / p84 (0051.jp2)
  32. References / p85 (0051.jp2)
  33. 6.Plasma enhanced oxidation of thin Cu films / p87 (0052.jp2)
  34. 6.1 Introduction / p87 (0052.jp2)
  35. 6.2 Experimental / p89 (0053.jp2)
  36. 6.3 Discussion / p90 (0054.jp2)
  37. 6.4 Conclusions / p104 (0061.jp2)
  38. References / p105 (0061.jp2)
  39. 7.Glow and plasmoidal plasmas for SiO₂ deposition with tetraethoxysilane / p107 (0062.jp2)
  40. 7.1 Introduction / p107 (0062.jp2)
  41. 7.2 Experimental / p108 (0063.jp2)
  42. 7.3 Results and discussion / p110 (0064.jp2)
  43. 7.4 Conclusions / p123 (0070.jp2)
  44. References / p125 (0071.jp2)
  45. Appendix1 / p127 (0072.jp2)
  46. Appendix2 / p128 (0073.jp2)
  47. List of publications arisen from the doctoral research project / p129 (0073.jp2)
  48. List of oral presentations / p130 (0074.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000092001
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000092226
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000000256315
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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