炭素材へのイオン注入に関する研究

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著者

    • 佐藤, 進 サトウ, ススム

書誌事項

タイトル

炭素材へのイオン注入に関する研究

著者名

佐藤, 進

著者別名

サトウ, ススム

学位授与大学

埼玉大学

取得学位

博士 (学術)

学位授与番号

甲第17号

学位授与年月日

1992-03-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0005.jp2)
  2. 内容梗概 / (0003.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1-1 イオン注入法による表層改質の現状 / p1 (0007.jp2)
  5. 1-2 イオン注入法による炭素材料の表層改質の現状 / p2 (0008.jp2)
  6. 1-3 本論文の意義と構成 / p6 (0010.jp2)
  7. 参考文献 / p9 (0011.jp2)
  8. 第2章 イオン注入による表層改質とイオン注入装置 / p11 (0012.jp2)
  9. 2-1 緒言 / p11 (0012.jp2)
  10. 2-2 注入イオンの深さ分布 / p11 (0012.jp2)
  11. 2-3 イオン照射によってイオン注入層に生じる構造変化 / p12 (0013.jp2)
  12. 2-4 イオン注入装置 / p15 (0014.jp2)
  13. 2-5 材料改質用簡易型イオン注入装置の試作 / p15 (0014.jp2)
  14. 2-6 結言 / p22 (0018.jp2)
  15. 参考文献 / p23 (0018.jp2)
  16. 第3章 ダイヤモンドへのイオン注入 / p24 (0019.jp2)
  17. 3-1 緒言 / p24 (0019.jp2)
  18. 3-2 試料と実験条件 / p24 (0019.jp2)
  19. 3-3 イオン注入層の電気伝導 / p25 (0019.jp2)
  20. 3-4 抵抗率の深さ分布 / p37 (0025.jp2)
  21. 3-5 光透過特性 / p48 (0031.jp2)
  22. 3-6 RBS法による注入分布と結晶構造の検討 / p50 (0032.jp2)
  23. 3-7 XPS法による化学結合の検討 / p56 (0035.jp2)
  24. 3-8 ラマン分光法による構造解析及び考察 / p64 (0039.jp2)
  25. 3-9 注入基板温度による注入層の構造制御 / p75 (0044.jp2)
  26. 3-1O 注入基板温度、注入エネルギー及び構造に関する考察 / p81 (0047.jp2)
  27. 3-11 結言 / p81 (0047.jp2)
  28. 参考文献 / p85 (0049.jp2)
  29. 第4章 炭素薄膜 / p87 (0050.jp2)
  30. 4-1 緒言 / p87 (0050.jp2)
  31. 4-2 試料と実験条件 / p88 (0051.jp2)
  32. 4-3 電気的特性 / p89 (0051.jp2)
  33. 4-4 ラマン分光法による構造解析 / p91 (0052.jp2)
  34. 4-5 結言 / p93 (0053.jp2)
  35. 参考文献 / p94 (0054.jp2)
  36. 第5章 結論 / p95 (0054.jp2)
  37. 研究論文目録 / p98 (0056.jp2)
  38. 謝辞 / p100 (0057.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000092025
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000092250
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000256339
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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