パルス電磁場刺激がインプラント材料表面の骨原性細胞株MC3T3-E1に与える影響

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著者

    • 広瀬, 由紀人 ヒロセ, ユキト

書誌事項

タイトル

パルス電磁場刺激がインプラント材料表面の骨原性細胞株MC3T3-E1に与える影響

著者名

広瀬, 由紀人

著者別名

ヒロセ, ユキト

学位授与大学

北海道医療大学

取得学位

博士 (歯学)

学位授与番号

甲第12号

学位授与年月日

1992-03-19

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. I. 緒言 / p1 (0003.jp2)
  3. II. 実験材料および方法 / p2 (0004.jp2)
  4. 1. インプラント材料 / p2 (0004.jp2)
  5. 2. 細胞培養 / p2 (0004.jp2)
  6. 3. パルス電磁場刺激 / p2 (0004.jp2)
  7. 4. DNA量の測定 / p3 (0004.jp2)
  8. 5. アルカリホスファターゼ活性の測定 / p3 (0004.jp2)
  9. 6. タンパク量の測定 / p4 (0005.jp2)
  10. 7. ヒドロキシプロリン量の測定 / p4 (0005.jp2)
  11. 8. 倒立位相差顕微鏡による培養細胞の観察 / p4 (0005.jp2)
  12. 9. 統計処理 / p4 (0005.jp2)
  13. III. 結果 / p4 (0005.jp2)
  14. 1. パルス電磁場刺激がインプラント材料表面上の細胞増殖に与える影響 / p4 (0005.jp2)
  15. 2. パルス電磁場刺激がインプラント材料表面上の細胞の分化に与える影響 / p5 (0005.jp2)
  16. IV. 考察 / p6 (0006.jp2)
  17. V. 結論 / p9 (0007.jp2)
  18. 文献 / p11 (0008.jp2)
  19. 表・付図 / (0011.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000093122
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000093348
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000257436
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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