パルス電磁場刺激がインプラント材料表面の骨原性細胞株MC3T3-E1に与える影響
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Bibliographic Information
- Title
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パルス電磁場刺激がインプラント材料表面の骨原性細胞株MC3T3-E1に与える影響
- Author
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広瀬, 由紀人
- Author(Another name)
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ヒロセ, ユキト
- University
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北海道医療大学
- Types of degree
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博士 (歯学)
- Grant ID
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甲第12号
- Degree year
-
1992-03-19
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / (0003.jp2)
- I. 緒言 / p1 (0003.jp2)
- II. 実験材料および方法 / p2 (0004.jp2)
- 1. インプラント材料 / p2 (0004.jp2)
- 2. 細胞培養 / p2 (0004.jp2)
- 3. パルス電磁場刺激 / p2 (0004.jp2)
- 4. DNA量の測定 / p3 (0004.jp2)
- 5. アルカリホスファターゼ活性の測定 / p3 (0004.jp2)
- 6. タンパク量の測定 / p4 (0005.jp2)
- 7. ヒドロキシプロリン量の測定 / p4 (0005.jp2)
- 8. 倒立位相差顕微鏡による培養細胞の観察 / p4 (0005.jp2)
- 9. 統計処理 / p4 (0005.jp2)
- III. 結果 / p4 (0005.jp2)
- 1. パルス電磁場刺激がインプラント材料表面上の細胞増殖に与える影響 / p4 (0005.jp2)
- 2. パルス電磁場刺激がインプラント材料表面上の細胞の分化に与える影響 / p5 (0005.jp2)
- IV. 考察 / p6 (0006.jp2)
- V. 結論 / p9 (0007.jp2)
- 文献 / p11 (0008.jp2)
- 表･付図 / (0011.jp2)