Design and development of high performance positive photoresists 高性能ポジ型フォトレジストの設計と開発

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著者

    • 花畑, 誠 ハナバタ, マコト

書誌事項

タイトル

Design and development of high performance positive photoresists

タイトル別名

高性能ポジ型フォトレジストの設計と開発

著者名

花畑, 誠

著者別名

ハナバタ, マコト

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第5916号

学位授与年月日

1993-03-02

注記・抄録

博士論文

10545

博士(工学)

1993-03-02

大阪大学

14401乙第05916号

目次

  1. Contents / p1 (0003.jp2)
  2. Introduction / p2 (0004.jp2)
  3. Chapter1.Influence of Various Factors of Novolak Resins on Performance of Positive Photoresist. / p8 (0007.jp2)
  4. 1-1.Introduction / p9 (0008.jp2)
  5. 1-2.Experimental / p14 (0010.jp2)
  6. 1-3.Results and Discussion / p22 (0014.jp2)
  7. 1-4.Summary / p50 (0028.jp2)
  8. 1-5.References / p54 (0030.jp2)
  9. Chapter2.A Selection Principle of Phenolic Compounds for Novolak Resins in High Performance Positive Photoresist. / p56 (0031.jp2)
  10. 2-1.Introduction / p57 (0032.jp2)
  11. 2-2.Experimental / p59 (0033.jp2)
  12. 2-3.Results and Discussion / p62 (0034.jp2)
  13. 2-4.Summary / p83 (0045.jp2)
  14. 2-5.References / p84 (0045.jp2)
  15. Chapter3.Dissolution Inhibition Mechanism for Image Formation in Novolak-based Positive Photoresist. / p85 (0046.jp2)
  16. 3-1.Introduction / p86 (0046.jp2)
  17. 3-2.Experimental / p87 (0047.jp2)
  18. 3-3.Results and Discussion / p89 (0048.jp2)
  19. 3-4.Summary / p99 (0053.jp2)
  20. 3-5.References / p100 (0053.jp2)
  21. Chapter4.Design and Development of High Performance Positive Photoresist . / p101 (0054.jp2)
  22. 4-1.Introduction / p102 (0054.jp2)
  23. 4-2.Experimental / p105 (0056.jp2)
  24. 4-3.Results and Discussion / p111 (0059.jp2)
  25. 4-4.Summary / p131 (0069.jp2)
  26. 4-5.References / p132 (0069.jp2)
  27. Conclusion / p133 (0070.jp2)
  28. Acknowlegements / p136 (0071.jp2)
  29. List of Publications / p137 (0072.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000093807
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000094033
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000258121
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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