高出力放電励起真空紫外フッ素分子レーザとその応用に関する研究

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Author

    • 欠端, 雅之 カケハタ, マサユキ

Bibliographic Information

Title

高出力放電励起真空紫外フッ素分子レーザとその応用に関する研究

Author

欠端, 雅之

Author(Another name)

カケハタ, マサユキ

University

慶應義塾大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第1207号

Degree year

1993-03-23

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / p1 (0007.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0011.jp2)
  4. 1.1 真空紫外光 / p2 (0012.jp2)
  5. 1.2 真空紫外光源の開発 / p2 (0012.jp2)
  6. 1.3 インコヒーレント光源 / p3 (0013.jp2)
  7. 1.4 非線形光学による真空紫外コヒーレント光源 / p5 (0015.jp2)
  8. 1.5 直接励起による真空紫外コヒーレント光源 / p8 (0018.jp2)
  9. 1.6 真空紫外光の応用 / p11 (0021.jp2)
  10. 1.7 本研究の目的と意義 / p14 (0024.jp2)
  11. 参考文献・図表 / p16 (0026.jp2)
  12. 第2章 放電励起真空紫外F₂レーザ / p20 (0030.jp2)
  13. 2.1 はじめに / p21 (0031.jp2)
  14. 2.2 放電励起F₂レーザ研究の歴史的背景 / p21 (0031.jp2)
  15. 2.3 放電励起F₂レーザの応用研究 / p22 (0032.jp2)
  16. 2.4 F₂レーザの分光学的特性 / p22 (0032.jp2)
  17. 2.5 放電励起F₂レーザの動力学 / p24 (0034.jp2)
  18. 参考文献・図表 / p27 (0037.jp2)
  19. 第3章 放電励起F₂レーザの小信号利得、飽和光強度の測定 / p36 (0046.jp2)
  20. 3.1 はじめに / p37 (0047.jp2)
  21. 3.2 増幅器理論 / p37 (0047.jp2)
  22. 3.3 実験装置 / p39 (0049.jp2)
  23. 3.4 実験結果および考察 / p41 (0051.jp2)
  24. 3.5 まとめ / p43 (0053.jp2)
  25. 参考文献・図表 / p44 (0054.jp2)
  26. 第4章 放電励起F₂レーザの高出力化 / p56 (0066.jp2)
  27. 4.1 はじめに / p57 (0067.jp2)
  28. 4.2 実験装置 / p58 (0068.jp2)
  29. 4.3 実験結果および考察 / p60 (0070.jp2)
  30. 4.4 まとめ / p62 (0072.jp2)
  31. 参考文献・図表 / p63 (0073.jp2)
  32. 第5章 シミュレーションコードによる放電励起F₂レーザの動力学解析 / p71 (0081.jp2)
  33. 5.1 はじめに / p72 (0082.jp2)
  34. 5.2 シミュレーションコードの構成 / p72 (0082.jp2)
  35. 5.3 解析結果および考察 / p75 (0085.jp2)
  36. 5.4 まとめ / p78 (0088.jp2)
  37. 参考文献・図表 / p79 (0089.jp2)
  38. 第6章 不安定共振器注入シーディング型放電励起F₂レーザの動作特性 / p108 (0118.jp2)
  39. 6.1 はじめに / p109 (0119.jp2)
  40. 6.2 注入シーディングによるレーザビームの制御 / p109 (0119.jp2)
  41. 6.3 注入シーディング共振器のビーム広がり角測定 / p114 (0124.jp2)
  42. 6.4 注入シーディング効率測定 / p118 (0128.jp2)
  43. 6.5 まとめ / p123 (0133.jp2)
  44. 参考文献・図表 / p124 (0134.jp2)
  45. 第7章 放電励起F₂レーザの応用 / p153 (0163.jp2)
  46. 7.1 はじめに / p154 (0164.jp2)
  47. 7.2 誘導ラマン散乱による波長変換 / p154 (0164.jp2)
  48. 7.3 F₂レーザを用いた有機高分子フィルムのアブレーション / p164 (0174.jp2)
  49. 7.4 まとめ / p171 (0181.jp2)
  50. 参考文献・図表 / p172 (0182.jp2)
  51. 第8章 結論 / p201 (0211.jp2)
  52. 8.1 はじめに / p202 (0212.jp2)
  53. 8.2 結果 / p202 (0212.jp2)
  54. 8.3 総括 / p205 (0215.jp2)
  55. 謝辞 / (0216.jp2)
4access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000093863
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000094089
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000258177
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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