Spectroscopic studies on the excited states of phenylsilane and its photolysis products フェニルシラン及びその光解離生成物の励起状態に関する分光学的研究

この論文をさがす

著者

    • 石川, 春樹 イシカワ, ハルキ

書誌事項

タイトル

Spectroscopic studies on the excited states of phenylsilane and its photolysis products

タイトル別名

フェニルシラン及びその光解離生成物の励起状態に関する分光学的研究

著者名

石川, 春樹

著者別名

イシカワ, ハルキ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

甲第5275号

学位授与年月日

1993-03-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. Acknowledgement / p1 (0004.jp2)
  3. Contents / p2 (0005.jp2)
  4. I.Introduction / I-1 / (0006.jp2)
  5. References / I-5 / (0008.jp2)
  6. II.Electronic Interactions between the Silyl Group and the π-system in the Excited State of Phenylsilane / II-1 / (0009.jp2)
  7. II-1.Introduction / II-1 / (0009.jp2)
  8. II-2.Spectroscopic Analysis of the Internal Rotation / II-4 / (0010.jp2)
  9. II-3.Ab initio MO calculations of phenylsilane / II-11 / (0014.jp2)
  10. II-4.Summary / II-16 / (0016.jp2)
  11. II-A.Appendix / II-39 / (0028.jp2)
  12. III.The 193nm Photolysis of Phenylsilane:The Energy Distribution of the Fragments / III-1 / (0038.jp2)
  13. III-1.Introduction / III-1 / (0038.jp2)
  14. III-2.Experimental / III-3 / (0039.jp2)
  15. III-3.Results and Discussion / III-4 / (0040.jp2)
  16. III-4.Summary / III-9 / (0042.jp2)
  17. IV.Spectroscopic Studies on Fragments of the 193 nm Photolysis of Phenylsilane / IV-1 / (0048.jp2)
  18. IV-1.Fermi Resonance in the X state and Vibrational Analysis of SiH₂(X¹A₁ and A¹B₁) / IV-1 / (0048.jp2)
  19. IV-2.Formationand Decay of SiC₂ Produced on the 193nm Photolysis of Phenylsilane / IV-35 / (0065.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000094038
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000094264
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000258352
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ