Si(100)/K,H修飾表面の物性と反応性

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著者

    • 高木, 紀明 タカギ, ノリアキ

書誌事項

タイトル

Si(100)/K,H修飾表面の物性と反応性

著者名

高木, 紀明

著者別名

タカギ, ノリアキ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

甲第5279号

学位授与年月日

1993-03-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第I章 序論 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.緒言 / p1 (0005.jp2)
  5. 2.本研究に関連した従来の研究 / p5 (0007.jp2)
  6. 3.研究方針 / p15 (0012.jp2)
  7. 第II章 実験 / p18 (0013.jp2)
  8. 1.超高真空装置 / p18 (0013.jp2)
  9. 2.測定手段 / p20 (0014.jp2)
  10. 3.試料調整 / p27 (0018.jp2)
  11. 第III章 結果と考察 / p30 (0019.jp2)
  12. 1.Si(100)-K表面の反応性 / p30 (0019.jp2)
  13. 2.Si(100)(2×1)-H表面とKとの相互作用 / p63 (0036.jp2)
  14. Appendix 1 EELSの励起断面積 / p89 (0049.jp2)
  15. Appendix 2 バンドベンディング / p92 (0050.jp2)
  16. 謝辞 / p94 (0051.jp2)
  17. 引用文献 / p95 (0052.jp2)
  18. Existence of two adsorbed states for K on the Si(100)(2×1)surface:A thermal desorption study / p1868 (0064.jp2)
  19. Chemical reactivity of the Si(100)(2×1)-K surface:electron energy loss spectroscopy and thermal desorption studies / p498 (0067.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000094042
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000094268
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000258356
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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