機能性Si薄膜材料の開発と太陽電池への応用に関する研究 Development of functional Si thin films and its application to solar cells

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著者

    • 脇坂, 健一郎 ワキサカ, ケンイチロウ

書誌事項

タイトル

機能性Si薄膜材料の開発と太陽電池への応用に関する研究

タイトル別名

Development of functional Si thin films and its application to solar cells

著者名

脇坂, 健一郎

著者別名

ワキサカ, ケンイチロウ

学位授与大学

熊本大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第9号

学位授与年月日

1993-03-02

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序章 / p1 (0005.jp2)
  3. 第2章 機能性Si材料を用いた薄膜太陽電池開発の指針 / p7 (0011.jp2)
  4. 2.1 緒言 / p7 (0011.jp2)
  5. 2.2 太陽電池によるエネルギー変換 / p8 (0012.jp2)
  6. 2.3 理論解析に基づく高効率化の検討 / p12 (0016.jp2)
  7. 2.4 高効率化の指針 / p16 (0020.jp2)
  8. 2.5 新型多層構造太陽電池シミュレーション / p17 (0021.jp2)
  9. 2.6 結言 / p25 (0029.jp2)
  10. 第3章 光電変換用アモルファスSi材料(i層)の高品質化 / p28 (0032.jp2)
  11. 3.1 緒言 / p28 (0032.jp2)
  12. 3.2 スーパーチャンバによる検討 / p29 (0033.jp2)
  13. 3.3 スーパーチャンバで形成されたa-Si膜の特性 / p35 (0039.jp2)
  14. 3.4 直接光CVD法によるa-Si膜の検討 / p44 (0048.jp2)
  15. 3.5 結言 / p60 (0064.jp2)
  16. 第4章 接合形成用アモルファスSi材料(p層)の高品質化 / p64 (0068.jp2)
  17. 4.1 緒言 / p64 (0068.jp2)
  18. 4.2 新型ドーパント(トリメチルボロン)によるp層膜の形成 / p64 (0068.jp2)
  19. 4.3 B(CH₃)₃を用いて作製したa-SiC膜の特性 / p71 (0075.jp2)
  20. 4.4 結言 / p80 (0084.jp2)
  21. 第5章 機能性Si材料の太陽電池のモジュール化技術 / p82 (0086.jp2)
  22. 5.1 緒言 / p82 (0086.jp2)
  23. 5.2 レーザパターニングアモルファスSi太陽電池の開発 / p83 (0087.jp2)
  24. 5.3 アモルファスSi太陽電池の変換効率の向上 / p96 (0100.jp2)
  25. 5.4 結言 / p100 (0104.jp2)
  26. 第6章 総括 / p103 (0107.jp2)
  27. 謝辞 / p107 (0111.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095205
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095431
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259519
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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