高磁歪薄膜の基礎特性に関する研究

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著者

    • 林, 嘉隆 ハヤシ, ヨシタカ

書誌事項

タイトル

高磁歪薄膜の基礎特性に関する研究

著者名

林, 嘉隆

著者別名

ハヤシ, ヨシタカ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4831号

学位授与年月日

1993-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0003.jp2)
  3. 1.1 従来の磁歪材料の研究 / p1 (0003.jp2)
  4. 1.2 希土類-Fe合金の磁歪 / p3 (0004.jp2)
  5. 1.3 従来の磁歪測定法 / p8 (0007.jp2)
  6. 1.4 電磁形及びその他のアクチュエータ / p11 (0008.jp2)
  7. 1.5 本研究の目的 / p12 (0009.jp2)
  8. 参考文献 / p14 (0010.jp2)
  9. 第2章 三端子電気容量変化法による薄膜磁歪の測定 / p17 (0011.jp2)
  10. 2.1 序 / p17 (0011.jp2)
  11. 2.2 三端子電気容量法の原理 / p18 (0012.jp2)
  12. 2.3 高温用薄膜磁歪測定用キャパシタンスセルの作製 / p22 (0014.jp2)
  13. 2.4 Ni薄膜の磁歪測定 / p26 (0016.jp2)
  14. 2.5 まとめ / p38 (0022.jp2)
  15. 参考文献 / p39 (0022.jp2)
  16. 第3章 アモルファスTb-Fe薄膜の磁気特性 / p41 (0023.jp2)
  17. 3.1 序 / p41 (0023.jp2)
  18. 3.2 薄膜作製法 / p42 (0024.jp2)
  19. 3.3 Tb-Fe膜の磁歪と磁気異方性 / p45 (0025.jp2)
  20. 3.4 まとめ / p62 (0034.jp2)
  21. 参考文献 / p65 (0035.jp2)
  22. 第4章 アモルファスSm-Fe薄膜の磁気特性 / p66 (0036.jp2)
  23. 4.1 序 / p66 (0036.jp2)
  24. 4.2 薄膜作製法 / p66 (0036.jp2)
  25. 4.3 Sm-Fe膜の磁歪と磁気異方性 / p68 (0037.jp2)
  26. 4.4 まとめ / p82 (0044.jp2)
  27. 参考文献 / p86 (0046.jp2)
  28. 第5章 薄膜アクチュエータに関する基礎的検討 / p87 (0046.jp2)
  29. 5.1 序 / p87 (0046.jp2)
  30. 5.2 作製法及び測定方法 / p87 (0046.jp2)
  31. 5.3 薄膜アクチュエータ / p88 (0047.jp2)
  32. 5.4 まとめ / p95 (0050.jp2)
  33. 参考文献 / p96 (0051.jp2)
  34. 第6章 結論 / p97 (0051.jp2)
  35. 6.1 本研究の結論 / p97 (0051.jp2)
  36. 6.2 今後の展望 / p99 (0052.jp2)
  37. 謝辞 / p100 (0053.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095387
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095613
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259701
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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