スチレン系ポリスルホンの合成及びポジ型レジスト高分子への応用

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著者

    • 金, 炳圭 キム, ビョンキュウ

書誌事項

タイトル

スチレン系ポリスルホンの合成及びポジ型レジスト高分子への応用

著者名

金, 炳圭

著者別名

キム, ビョンキュウ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4838号

学位授与年月日

1993-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0002.jp2)
  2. 第一章 研究の背景と目的 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 ポリスルホン / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 レジストについて / p3 (0006.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的及び方法 / p5 (0007.jp2)
  6. 1.4 本論文の概要 / p7 (0008.jp2)
  7. 1.5 参考文献 / p9 (0009.jp2)
  8. 第二章 スチレン系ポリスルホンの合成 / p11 (0010.jp2)
  9. 2.1 序 / p11 (0010.jp2)
  10. 2.2 実験 / p15 (0012.jp2)
  11. 2.3 結果及び考察 / p20 (0014.jp2)
  12. 2.4 結論 / p62 (0035.jp2)
  13. 2.5 参考文献 / p63 (0036.jp2)
  14. 第三章 スチレン系ポリスルホンの光分解挙動 / p66 (0037.jp2)
  15. 3.1 序 / p66 (0037.jp2)
  16. 3.2 実験 / p71 (0040.jp2)
  17. 3.3 結果及び考察 / p76 (0042.jp2)
  18. 3.4 結論 / p93 (0051.jp2)
  19. 3.5 参考文献 / p96 (0052.jp2)
  20. 第四章 スチレン系ポリスルホンの脱保護基反応 / p97 (0053.jp2)
  21. 4.1 序 / p97 (0053.jp2)
  22. 4.2 実験 / p99 (0054.jp2)
  23. 4.3 結果及び考察 / p107 (0058.jp2)
  24. 4.4 結論 / p126 (0067.jp2)
  25. 4.5 参考文献 / p128 (0068.jp2)
  26. 第五章 スチレン系ポリスルホンのレジスト高分子への応用 / p131 (0070.jp2)
  27. 5.1 序 / p131 (0070.jp2)
  28. 5.2 実験 / p139 (0074.jp2)
  29. 5.3 結果及び考察 / p142 (0075.jp2)
  30. 5.4 結論 / p174 (0091.jp2)
  31. 5.5 参考文献 / p178 (0093.jp2)
  32. 第六章 総括 / p180 (0094.jp2)
  33. 謝辞 / p184 (0096.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095394
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095620
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259708
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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