アモルファスシリコンの形成とその応用に関する研究

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著者

    • 羽賀, 浩一 ハガ, コウイチ

書誌事項

タイトル

アモルファスシリコンの形成とその応用に関する研究

著者名

羽賀, 浩一

著者別名

ハガ, コウイチ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第5930号

学位授与年月日

1993-01-13

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 アモルファスシリコン薄膜の研究の置かれた位置 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的 / p2 (0006.jp2)
  5. 参考文献 / p4 (0007.jp2)
  6. 第2章 酸素を添加したアモルファスシリコン薄膜の形成とその電気・光学的特性 / p5 (0007.jp2)
  7. 2.1 序言 / p5 (0007.jp2)
  8. 2.2 実験方法 / p5 (0007.jp2)
  9. 2.3 実験結果と考察 / p12 (0011.jp2)
  10. 2.4 結言 / p22 (0016.jp2)
  11. 参考文献 / p23 (0016.jp2)
  12. 第3章 酸素を添加したアモルファスシリコン薄膜の構造 / p25 (0017.jp2)
  13. 3.1 序言 / p25 (0017.jp2)
  14. 3.2 実験方法 / p25 (0017.jp2)
  15. 3.3 実験結果と考察 / p33 (0021.jp2)
  16. 3.4 結言 / p48 (0029.jp2)
  17. 参考文献 / p49 (0029.jp2)
  18. 第4章 光センサへの応用 / p51 (0030.jp2)
  19. 4.1 序言 / p51 (0030.jp2)
  20. 4.2 実験方法 / p52 (0031.jp2)
  21. 4.3 実験結果と考察 / p55 (0032.jp2)
  22. 4.4 結言 / p75 (0042.jp2)
  23. 参考文献 / p76 (0043.jp2)
  24. 第5章 電子写真感光体への応用 / p79 (0044.jp2)
  25. 5.1 序言 / p79 (0044.jp2)
  26. 5.2 実験方法 / p81 (0045.jp2)
  27. 5.3 実験結果と考察 / p86 (0048.jp2)
  28. 5.4. 結言 / p97 (0053.jp2)
  29. 参考文献 / p98 (0054.jp2)
  30. 第6章 総括 / p99 (0054.jp2)
  31. 謝辞 / p103 (0056.jp2)
  32. 本研究に関する発表 / p105 (0057.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095462
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095688
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259776
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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