マイクロ波プラズマCVD法によるAl-Si-C-O-N系薄膜の合成に関する研究

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著者

    • 染野, 義博 ソメノ, ヨシヒロ

書誌事項

タイトル

マイクロ波プラズマCVD法によるAl-Si-C-O-N系薄膜の合成に関する研究

著者名

染野, 義博

著者別名

ソメノ, ヨシヒロ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第5962号

学位授与年月日

1993-02-10

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第I章 緒論 / p1 (0009.jp2)
  3. I-1 本研究の目的と意義 / p1 (0009.jp2)
  4. I-2 Al-Si-C-0-N系セラミックスの概要とその応用 / p5 (0013.jp2)
  5. I-3 Al-Si-C-O-N系薄膜合成の近況とその特性 / p13 (0021.jp2)
  6. I-4 Al-Si-C-0-N系薄膜の合成における基本的指針 / p19 (0027.jp2)
  7. 第II章 結晶質A1N薄膜の合成 / p27 (0035.jp2)
  8. II-1 はじめに / p27 (0035.jp2)
  9. II-2 実験方法 / p28 (0036.jp2)
  10. II-3 結晶質A1N薄膜の合成 / p33 (0041.jp2)
  11. II-4 A1N薄膜合成におけるArガス添加効果 / p56 (0064.jp2)
  12. II-5 小括 / p72 (0080.jp2)
  13. 第III章 Al-0-N系薄膜の合成 / p73 (0081.jp2)
  14. III-1 はじめに / p73 (0081.jp2)
  15. III-2 実験方法 / p74 (0082.jp2)
  16. III-3 A1N薄膜への酸素添加結果 / p77 (0085.jp2)
  17. III-4 小括 / p97 (0105.jp2)
  18. 第IV章 AI-C-O-N系薄膜の合成 / p99 (0107.jp2)
  19. IV-1 はじめに / p99 (0107.jp2)
  20. IV-2 実験方法 / p100 (0108.jp2)
  21. IV-3 A1N薄膜への炭素、酸素添加結果 / p102 (0110.jp2)
  22. IV-4 小括 / p116 (0124.jp2)
  23. 第V章 Al-Si-0-N系薄膜の合成 / p117 (0125.jp2)
  24. V-1 はじめに / p117 (0125.jp2)
  25. V-2 実験方法 / p118 (0126.jp2)
  26. V-3 A1N薄膜への珪素、酸素添加結果 / p121 (0129.jp2)
  27. V-4 小括 / p137 (0145.jp2)
  28. 第VI章 Al-Si-C-O-N系薄膜の諸特性 / p139 (0147.jp2)
  29. VI-1 はじめに / p139 (0147.jp2)
  30. VI-2 Al-Si-C-0-N系薄膜のマイクロビッカース硬度 / p140 (0148.jp2)
  31. VI-3 Al-Si-C-O-N系薄膜の大気雰囲気中加熱による表面組織の安定性 / p147 (0155.jp2)
  32. VI-4 小括 / p167 (0175.jp2)
  33. 第VII章 総括 / p170 (0178.jp2)
  34. 参考文献 / p174 (0182.jp2)
  35. 謝辞 / p181 (0189.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095494
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095720
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259808
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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