スパッタ直接法による磁気記録用γ-Fe[2]O[3]薄膜の作製法の研究

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著者

    • 太田, 聡 オオタ, サトシ

書誌事項

タイトル

スパッタ直接法による磁気記録用γ-Fe[2]O[3]薄膜の作製法の研究

著者名

太田, 聡

著者別名

オオタ, サトシ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第6071号

学位授与年月日

1993-03-18

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.2 フェライト薄膜媒体の作製法の研究経緯と課題 / p9 (0011.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的と論文の構成 / p11 (0012.jp2)
  6. 第2章 スパッタリング行程における、ターゲット表面上の酸化反応の制御 / p13 (0013.jp2)
  7. 2.1 序 / p13 (0013.jp2)
  8. 2.2 実験方法 / p17 (0015.jp2)
  9. 2.3 実験結果と考察 / p21 (0017.jp2)
  10. 2.4 小括 / p42 (0028.jp2)
  11. 第3章 スパッタリング行程における、基板表面上の酸化反応の制御 / p43 (0028.jp2)
  12. 3.1 序 / p43 (0028.jp2)
  13. 3.2 実験方法 / p51 (0032.jp2)
  14. 3.3 実験結果と考察 / p54 (0034.jp2)
  15. 3.4 小括 / p82 (0048.jp2)
  16. 第4章 得られた[化学式]薄膜の特性 / p83 (0048.jp2)
  17. 4.1 序 / p83 (0048.jp2)
  18. 4.2 実験方法 / p85 (0049.jp2)
  19. 4.3 実験結果と考察 / p87 (0050.jp2)
  20. 4.4 小括 / p112 (0063.jp2)
  21. 第5章 [化学式]薄膜の熱処理によるγ-Fe₂O₃薄膜の作製とその特性 / p113 (0063.jp2)
  22. 5.1 序 / p113 (0063.jp2)
  23. 5.2 実験方法 / p118 (0066.jp2)
  24. 5.3 実験結果と考察 / p120 (0067.jp2)
  25. 5.4 小括 / p146 (0080.jp2)
  26. 第6章 磁気ディスクへの応用(電磁変換特性,熱的信頼性,機械的信頼性) / p147 (0080.jp2)
  27. 6.1 序 / p147 (0080.jp2)
  28. 6.2 実験方法 / p153 (0083.jp2)
  29. 6.3 実験結果と考察 / p158 (0086.jp2)
  30. 6.4 小括 / p194 (0104.jp2)
  31. 第7章 結論 / p195 (0104.jp2)
  32. 謝辞 / p199 (0106.jp2)
  33. 参考文献 / p200 (0107.jp2)
  34. 本研究に関する発表リスト / p205 (0109.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095603
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095829
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259917
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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