非晶質シリコン系薄膜の基礎物性と電子写真感光体への応用に関する研究

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著者

    • 脇田, 和樹 ワキタ, カズキ

書誌事項

タイトル

非晶質シリコン系薄膜の基礎物性と電子写真感光体への応用に関する研究

著者名

脇田, 和樹

著者別名

ワキタ, カズキ

学位授与大学

大阪府立大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第728号

学位授与年月日

1993-03-29

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0005.jp2)
  3. 第2章 非晶質シリコン系薄膜の製作 / p7 (0008.jp2)
  4. 2-1 緒言 / p7 (0008.jp2)
  5. 2-2 グロー放電プラズマ / p7 (0008.jp2)
  6. 2-3 製作装置 / p8 (0009.jp2)
  7. 2-4 製作方法 / p12 (0011.jp2)
  8. 2-5 プラズマ発光分光法 / p13 (0011.jp2)
  9. 2-6 結言 / p17 (0013.jp2)
  10. 第3章 非晶質シリコン薄膜の基礎特性 / p20 (0015.jp2)
  11. 3-1 緒言 / p20 (0015.jp2)
  12. 3-2 不純物添加特性 / p20 (0015.jp2)
  13. 3-3 水素結合状態 / p24 (0017.jp2)
  14. 3-4 欠陥状態 / p31 (0020.jp2)
  15. 3-5 結言 / p36 (0023.jp2)
  16. 第4章 非晶質シリコン系化合物の基礎物性 / p39 (0024.jp2)
  17. 4-1 緒言 / p39 (0024.jp2)
  18. 4-2 非晶質シリコン酸化膜の基礎物性 / p39 (0024.jp2)
  19. 4-3 非晶質シリコン炭素膜の基礎物性 / p48 (0029.jp2)
  20. 4-4 非晶質シリコン窒素膜の基礎物性 / p60 (0035.jp2)
  21. 4-5 結言 / p66 (0038.jp2)
  22. 第5章 非晶質シリコン系電子写真感光体の製作と電子写真特性 / p71 (0040.jp2)
  23. 5-1 緒言 / p71 (0040.jp2)
  24. 5-2 電子写真感光体の製作 / p74 (0042.jp2)
  25. 5-3 電子写真感光体の特性 / p80 (0045.jp2)
  26. 5-4 高帯電能・高感度シリコン感光体 / p93 (0051.jp2)
  27. 5-5 非晶質シリコンカーバイド感光体 / p102 (0056.jp2)
  28. 5-6 他の感光体との比較 / p109 (0059.jp2)
  29. 5-7 結言 / p111 (0060.jp2)
  30. 第6章 総括 / p114 (0062.jp2)
  31. 謝辞 / p117 (0063.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000095640
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000095866
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000259954
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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