脱灰エナメル質の再石灰化におよぼすQスイッチNd-YAGレーザー照射の影響

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著者

    • 好川, 正 ヨシカワ, タダシ

書誌事項

タイトル

脱灰エナメル質の再石灰化におよぼすQスイッチNd-YAGレーザー照射の影響

著者名

好川, 正

著者別名

ヨシカワ, タダシ

学位授与大学

長崎大学

取得学位

博士 (歯学)

学位授与番号

乙第11号

学位授与年月日

1993-05-19

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 論文内容の要旨 / (0004.jp2)
  3. 目次 / (0008.jp2)
  4. 本研究の背景 / p1 (0012.jp2)
  5. 1章 QスイッチNd-YAGレーザーの照射野の規定方法 / p2 (0013.jp2)
  6. 1-1 緒言 / p2 (0013.jp2)
  7. 1-2 実験方法 / p2 (0013.jp2)
  8. 1-3 結果 / p5 (0016.jp2)
  9. 1-4 考察 / p5 (0016.jp2)
  10. 1-5 結論 / p5 (0016.jp2)
  11. 2章 脱灰エナメル質へのレーザー照射条件の検討-SEMによる観察- / p7 (0018.jp2)
  12. 2-1 緒言 / p7 (0018.jp2)
  13. 2-2 材料および方法 / p7 (0018.jp2)
  14. 2-3 結果 / p10 (0021.jp2)
  15. 2-4 考察 / p18 (0029.jp2)
  16. 2-5 結論 / p18 (0029.jp2)
  17. 3章 脱灰エナメル質の再石灰化におよぼすレーザー照射の影響 / p19 (0030.jp2)
  18. 3-1 緒言 / p19 (0030.jp2)
  19. 3-2 材料および方法 / p19 (0030.jp2)
  20. 3-3 結果 / p24 (0035.jp2)
  21. 3-4 考察 / p24 (0035.jp2)
  22. 3-5 結論 / p26 (0037.jp2)
  23. 4章 レーザー被照射再石灰化エナメル質における耐酸性の評価 / p27 (0038.jp2)
  24. 4-1 緒言 / p27 (0038.jp2)
  25. 4-2 材料および方法 / p27 (0038.jp2)
  26. 4-3 結果 / p29 (0040.jp2)
  27. 4-4 考察 / p36 (0047.jp2)
  28. 4-5 結論 / p38 (0049.jp2)
  29. 5章 総括 / p39 (0050.jp2)
  30. 5-1 1章のまとめ / p39 (0050.jp2)
  31. 5-2 2章のまとめ / p39 (0050.jp2)
  32. 5-3 3章のまとめ / p39 (0050.jp2)
  33. 5-4 4章のまとめ / p39 (0050.jp2)
  34. 5-5 総括および本研究結果の臨床的意義 / p40 (0051.jp2)
  35. 文献 / p41 (0052.jp2)
  36. エナメル質の脱灰におよぼすO.1M乳酸のpHならびに作用時間の影響﹡ / p671 (0056.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000096391
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000096617
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000260705
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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