気相合成ダイヤモンドの熱化学反応による研磨に関する研究

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著者

    • 楊, 政峰 ヤン, チョンフォン

書誌事項

タイトル

気相合成ダイヤモンドの熱化学反応による研磨に関する研究

著者名

楊, 政峰

著者別名

ヤン, チョンフォン

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第2520号

学位授与年月日

1992-06-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.1 はじめに / p2 (0008.jp2)
  5. 1.2 従来の研究 / p5 (0011.jp2)
  6. 1.3 本研究の目的 / p6 (0012.jp2)
  7. 1.4 本論文の構成 / p7 (0013.jp2)
  8. 参考文献 / p9 (0015.jp2)
  9. 第2章 気相合成ダイヤモンドの作製 / p14 (0020.jp2)
  10. 2.1 はじめに / p15 (0021.jp2)
  11. 2.2 マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド膜の作製 / p15 (0021.jp2)
  12. 2.3 アーク放電プラズマジェットCVD法によるダイヤモンド薄板の作製 / p39 (0045.jp2)
  13. 2.4 まとめ / p50 (0056.jp2)
  14. 参考文献 / p50 (0056.jp2)
  15. 第3章 熱化学反応を利用したダイヤモンド研磨装置の試作 / p54 (0060.jp2)
  16. 3.1 はじめに / p55 (0061.jp2)
  17. 3.2 試作研磨装置の構造 / p55 (0061.jp2)
  18. 3.3 試作研磨装置の性能 / p57 (0063.jp2)
  19. 3.4 試作研磨装置の研磨性能 / p64 (0070.jp2)
  20. 3.5 むすび / p64 (0070.jp2)
  21. 参考文献 / p69 (0075.jp2)
  22. 第4章 気相合成ダイヤモンド膜の研磨 / p70 (0076.jp2)
  23. 4.1 はじめに / p71 (0077.jp2)
  24. 4.2 試料および研磨速度の評価 / p71 (0077.jp2)
  25. 4.3 最適研磨条件の選定 / p74 (0080.jp2)
  26. 4.4 最適研磨条件および研磨面の評価 / p99 (0105.jp2)
  27. 4.5 研磨のメカニズム / p103 (0109.jp2)
  28. 4.6 まとめ / p103 (0109.jp2)
  29. 参考文献 / p108 (0114.jp2)
  30. 第5章 気相合成ダイヤモンド薄板エッジ部の研磨 / p110 (0116.jp2)
  31. 5.1 はじめに / p111 (0117.jp2)
  32. 5.2 ダイヤモンド被加工物の作製 / p111 (0117.jp2)
  33. 5.3 エッジ部の研磨法 / p111 (0117.jp2)
  34. 5.4 研磨結果 / p115 (0121.jp2)
  35. 5.5 まとめ / p131 (0137.jp2)
  36. 参考文献 / p131 (0137.jp2)
  37. 第6章 結論 / p133 (0139.jp2)
  38. 謝辞 / (0142.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000096861
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000097089
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000261175
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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