Fundamental study of GaInAs/GaInAsP/InP quantum-wire lasers GaInAs/GaInAsP/InP量子細線レーザの基礎研究

この論文をさがす

著者

    • 三宅, 康也 ミヤケ, ヤスナリ

書誌事項

タイトル

Fundamental study of GaInAs/GaInAsP/InP quantum-wire lasers

タイトル別名

GaInAs/GaInAsP/InP量子細線レーザの基礎研究

著者名

三宅, 康也

著者別名

ミヤケ, ヤスナリ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第2607号

学位授与年月日

1993-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. Contents / p1 (0007.jp2)
  3. Chapter1 Introduction / p1 (0010.jp2)
  4. 1.1 Introduction / p1 (0010.jp2)
  5. 1.2 Semiconductor Laser as a Device / p3 (0012.jp2)
  6. 1.3 Quantum-Well Laser / p3 (0012.jp2)
  7. 1.4 Quantum-Wire and Quantum-Box Lasers / p5 (0014.jp2)
  8. 1.5 Purpose and Contents of This Thesis / p7 (0016.jp2)
  9. References / p13 (0022.jp2)
  10. Chapter2 Theoretical Background / p19 (0028.jp2)
  11. 2.1 Introduction / p19 (0028.jp2)
  12. 2.2 Gain and Linewidth Enhancement Factor α / p20 (0029.jp2)
  13. 2.3 Threshold Current Density of Quantum-Wire Laser / p24 (0033.jp2)
  14. 2.4 Strained Quantum-Wire Laser / p30 (0039.jp2)
  15. 2.5 Conclusion / p40 (0049.jp2)
  16. References / p41 (0050.jp2)
  17. Chapter3 Quanturn-Film laser by LP-OMVPE / p45 (0054.jp2)
  18. 3.1 Introduction / p45 (0054.jp2)
  19. 3.2 GaInAs/GaInAsP Growth by LP-OMVPE / p46 (0055.jp2)
  20. 3.3 Quantum-Film Laser / p56 (0065.jp2)
  21. 3.4 Conclusion / p61 (0070.jp2)
  22. References / p62 (0071.jp2)
  23. Chapter4 Improvements in Fabrication Process for Quantum-Wire Lasers / p66 (0075.jp2)
  24. 4.1 Introduction / p66 (0075.jp2)
  25. 4.2 Improvement of Regrowth Interface / p68 (0077.jp2)
  26. 4.3 Hole Injection Efficiency / p76 (0085.jp2)
  27. 4.4 Conclusion / p84 (0093.jp2)
  28. References / p85 (0094.jp2)
  29. Chapter5 Room Temperature Operation of Quantum-Wire Lasers / p87 (0096.jp2)
  30. 5.1 Introduction / p87 (0096.jp2)
  31. 5.2 Fabrication / p89 (0098.jp2)
  32. 5.3 Measurement / p94 (0103.jp2)
  33. 5.4 Strained MQF Laser with Wire Like Active Region / p97 (0106.jp2)
  34. 5.5 Conclusion / p103 (0112.jp2)
  35. References / p104 (0113.jp2)
  36. Chapter6 Dry Etching Process by ECR-RIBE / p108 (0117.jp2)
  37. 6.1 Introduction / p108 (0117.jp2)
  38. 6.2 ECR-RIBE System / p109 (0118.jp2)
  39. 6.3 Etching Condition for MQW Structure / p112 (0121.jp2)
  40. 6.4 Room Temperature Operation of MQF-Wire Laser by ECR-RIBE / p114 (0123.jp2)
  41. 6.5 Conclusion / p115 (0124.jp2)
  42. References / p118 (0127.jp2)
  43. Chapter7 Conclusion / p122 (0131.jp2)
  44. Acknowledgements / p124 (0133.jp2)
  45. Publication List / p127 (0136.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000096948
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000097176
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000261262
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ