YBa[2]Cu[3]O[7-δ]薄膜の成長に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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YBa[2]Cu[3]O[7-δ]薄膜の成長に関する研究
- 著者名
-
篠原, 和彦
- 著者別名
-
シノハラ, カズヒコ
- 学位授与大学
-
東京工業大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
乙第2377号
- 学位授与年月日
-
1992-07-31
注記・抄録
博士論文
目次
- 論文目録 / (0002.jp2)
- 目次 / p4 (0006.jp2)
- 本研究の概要 / p2 (0004.jp2)
- 目次 / p4 (0006.jp2)
- 図一覧 / p6 (0007.jp2)
- 表一覧 / p9 (0009.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0010.jp2)
- 1.1 研究の背景 / p1 (0010.jp2)
- 1.2 本研究の目的 / p2 (0011.jp2)
- 1.3 酸化物超伝導体 / p4 (0012.jp2)
- 1.4 物理的性質 / p6 (0013.jp2)
- 1.5 材料的観点 / p7 (0013.jp2)
- 1.6 熱力学的観点から見たYBCO / p9 (0014.jp2)
- 1.7 薄膜作製法 / p20 (0020.jp2)
- 第2章 CVD成長系及び原料 / p33 (0026.jp2)
- 2.1 CVD装置 / p33 (0026.jp2)
- 2.2 CVD原料 / p41 (0030.jp2)
- 第3章 CVD膜の成長及び評価 / p60 (0040.jp2)
- 3.1 CVD成長条件 / p60 (0040.jp2)
- 3.2 CVD成長膜の構造 / p65 (0042.jp2)
- 3.3 熱処理 / p66 (0043.jp2)
- 3.4 CVD成長膜の超伝導特性 / p68 (0044.jp2)
- 第4章 CVD法に関する考察及び課題 / p71 (0045.jp2)
- 第5章 反応性共蒸着法の基板材料､蒸着原料および装置 / p76 (0048.jp2)
- 5.1 基板材料 / p76 (0048.jp2)
- 5.2 蒸着用原料 / p82 (0051.jp2)
- 5.3 蒸着装置 / p85 (0052.jp2)
- 第6章 蒸着膜の作製及び評価 / p93 (0056.jp2)
- 6.1 蒸着プロセス / p93 (0056.jp2)
- 6.2 蒸着条件 / p95 (0057.jp2)
- 6.3 YBCO膜の構造および超伝導特性 / p98 (0059.jp2)
- 第7章 蒸着法に関する考察 / p123 (0071.jp2)
- 7.1 c軸長について / p123 (0071.jp2)
- 7.2 XRDによる構造解析 / p132 (0076.jp2)
- 7.3 YBCO膜の成長機構について / p145 (0082.jp2)
- 7.4 超伝導特性に対する影響 / p147 (0083.jp2)
- 7.5 欠陥としての陽イオンの置換 / p148 (0084.jp2)
- 第8章 結論 / p149 (0084.jp2)
- Appendix / p151 (0086.jp2)
- 参考文献 / p155 (0089.jp2)
- 謝辞 / p163 (0094.jp2)