YBa[2]Cu[3]O[7-δ]薄膜の成長に関する研究

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著者

    • 篠原, 和彦 シノハラ, カズヒコ

書誌事項

タイトル

YBa[2]Cu[3]O[7-δ]薄膜の成長に関する研究

著者名

篠原, 和彦

著者別名

シノハラ, カズヒコ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第2377号

学位授与年月日

1992-07-31

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / p4 (0006.jp2)
  3. 本研究の概要 / p2 (0004.jp2)
  4. 目次 / p4 (0006.jp2)
  5. 図一覧 / p6 (0007.jp2)
  6. 表一覧 / p9 (0009.jp2)
  7. 第1章 序論 / p1 (0010.jp2)
  8. 1.1 研究の背景 / p1 (0010.jp2)
  9. 1.2 本研究の目的 / p2 (0011.jp2)
  10. 1.3 酸化物超伝導体 / p4 (0012.jp2)
  11. 1.4 物理的性質 / p6 (0013.jp2)
  12. 1.5 材料的観点 / p7 (0013.jp2)
  13. 1.6 熱力学的観点から見たYBCO / p9 (0014.jp2)
  14. 1.7 薄膜作製法 / p20 (0020.jp2)
  15. 第2章 CVD成長系及び原料 / p33 (0026.jp2)
  16. 2.1 CVD装置 / p33 (0026.jp2)
  17. 2.2 CVD原料 / p41 (0030.jp2)
  18. 第3章 CVD膜の成長及び評価 / p60 (0040.jp2)
  19. 3.1 CVD成長条件 / p60 (0040.jp2)
  20. 3.2 CVD成長膜の構造 / p65 (0042.jp2)
  21. 3.3 熱処理 / p66 (0043.jp2)
  22. 3.4 CVD成長膜の超伝導特性 / p68 (0044.jp2)
  23. 第4章 CVD法に関する考察及び課題 / p71 (0045.jp2)
  24. 第5章 反応性共蒸着法の基板材料、蒸着原料および装置 / p76 (0048.jp2)
  25. 5.1 基板材料 / p76 (0048.jp2)
  26. 5.2 蒸着用原料 / p82 (0051.jp2)
  27. 5.3 蒸着装置 / p85 (0052.jp2)
  28. 第6章 蒸着膜の作製及び評価 / p93 (0056.jp2)
  29. 6.1 蒸着プロセス / p93 (0056.jp2)
  30. 6.2 蒸着条件 / p95 (0057.jp2)
  31. 6.3 YBCO膜の構造および超伝導特性 / p98 (0059.jp2)
  32. 第7章 蒸着法に関する考察 / p123 (0071.jp2)
  33. 7.1 c軸長について / p123 (0071.jp2)
  34. 7.2 XRDによる構造解析 / p132 (0076.jp2)
  35. 7.3 YBCO膜の成長機構について / p145 (0082.jp2)
  36. 7.4 超伝導特性に対する影響 / p147 (0083.jp2)
  37. 7.5 欠陥としての陽イオンの置換 / p148 (0084.jp2)
  38. 第8章 結論 / p149 (0084.jp2)
  39. Appendix / p151 (0086.jp2)
  40. 参考文献 / p155 (0089.jp2)
  41. 謝辞 / p163 (0094.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000097042
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000097270
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000261356
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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