薄い高品質ゲート酸化膜の形成法の研究

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著者

    • 穂苅, 泰明 ホカリ, ヤスアキ

書誌事項

タイトル

薄い高品質ゲート酸化膜の形成法の研究

著者名

穂苅, 泰明

著者別名

ホカリ, ヤスアキ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第2379号

学位授与年月日

1992-07-31

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / p1 (0005.jp2)
  3. 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.1 本研究の背景 / p1 (0007.jp2)
  5. 1.2 本研究の目的と位置ずけ / p3 (0008.jp2)
  6. 1.3 本論文の構成と概要 / p6 (0010.jp2)
  7. 参考文献 / p8 (0011.jp2)
  8. 第2章 MOS容量の製作法および評価法 / p9 (0011.jp2)
  9. 2.1 はじめに / p9 (0011.jp2)
  10. 2.2 MOS容量の製造プロセス / p9 (0011.jp2)
  11. 2.3 実験および評価方法 / p13 (0013.jp2)
  12. 2.4 本章のまとめ / p19 (0016.jp2)
  13. 参考文献 / p19 (0016.jp2)
  14. 第3章 高品質酸化膜形成のための処理法 / p20 (0017.jp2)
  15. 3.1 はじめに / p20 (0017.jp2)
  16. 3.2 酸化前処理と酸化膜耐圧 / p22 (0018.jp2)
  17. 3.3 熱処理によるSi基板のクリーン化・格子欠陥の制御と酸化膜耐圧 / p33 (0023.jp2)
  18. 3.4 酸化雰囲気依存性 / p47 (0030.jp2)
  19. 3.5 本章のまとめ / p54 (0034.jp2)
  20. 参考文献 / p55 (0034.jp2)
  21. 第4章 高品質化・高信頼化のための手法 / p59 (0036.jp2)
  22. 4.1 はじめに / p59 (0036.jp2)
  23. 4.2 ポリシリ電極形成プロセスでの耐圧不良 / p60 (0037.jp2)
  24. 4.3 ポリシリ/A1コンタクト構造と長期信頼性 / p69 (0041.jp2)
  25. 4.4 本章のまとめ / p77 (0045.jp2)
  26. 参考文献 / p78 (0046.jp2)
  27. 第5章 絶縁破壊に関する長期信頼性と破壊のメカニズム / p80 (0047.jp2)
  28. 5.1 はじめに / p80 (0047.jp2)
  29. 5.2 長期信頼性の評価 / p81 (0047.jp2)
  30. 5.3 絶縁破壊のメカニズム / p101 (0057.jp2)
  31. 5.4 本章のまとめ / p115 (0064.jp2)
  32. 参考文献 / p116 (0065.jp2)
  33. 第6章 酸化膜の電気特性安定化の検討 / p119 (0066.jp2)
  34. 6.1 はじめに / p119 (0066.jp2)
  35. 6.2 Si/SiO₂界面準位・膜中電荷トラップの性質と起源 / p120 (0067.jp2)
  36. 6.3 電子注入ストレスによるSi/SiO₂界面の不安定性とH₂処理の効果 / p124 (0069.jp2)
  37. 6.4 正孔注入ストレスによる不安定性とH₂処理の効果 / p138 (0076.jp2)
  38. 6.5 H₂処理による安定性劣化原因の考察 / p146 (0080.jp2)
  39. 6.6 本章のまとめ / p149 (0081.jp2)
  40. 参考文献 / p150 (0082.jp2)
  41. 第7章 薄い酸化膜のデバイスへの適用 / p153 (0083.jp2)
  42. 7.1 はじめに / p153 (0083.jp2)
  43. 7.2 薄い酸化膜の物性と電気特性 / p153 (0083.jp2)
  44. 7.3 DRAMセルヘの適用 / p165 (0089.jp2)
  45. 7.4 本章のまとめ / p181 (0097.jp2)
  46. 参考文献 / p182 (0098.jp2)
  47. 第8章 結論 / p183 (0098.jp2)
  48. 8.1 結果の要約 / p183 (0098.jp2)
  49. 8.2 残る課題と今後の展望 / p187 (0100.jp2)
  50. 謝辞 / p190 (0102.jp2)
  51. 発表論文および学会発表 / p191 (0102.jp2)
  52. (1)本研究に関係する発表論文 / p191 (0102.jp2)
  53. (2)本研究に関係する学会発表等 / p192 (0103.jp2)
  54. (3)その他の発表論文 / p195 (0104.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000097044
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000097272
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000261358
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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