MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究 MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究

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著者

    • 舟窪, 浩 フナクボ, ヒロシ

書誌事項

タイトル

MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究

タイトル別名

MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究

著者名

舟窪, 浩

著者別名

フナクボ, ヒロシ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第2435号

学位授与年月日

1993-02-28

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / (0003.jp2)
  3. 第1章 緒言 / p1 (0007.jp2)
  4. 1-1 本研究の目的と研究計画 / p1 (0007.jp2)
  5. 1-2 研究の背景 / p2 (0008.jp2)
  6. 参考文献 / p11 (0017.jp2)
  7. 図表 / p13 (0019.jp2)
  8. 第2章 窒化鉄薄膜 / p17 (0023.jp2)
  9. 2-1 緒言 / p17 (0023.jp2)
  10. 2-2 薄膜の作製と評価方法 / p19 (0025.jp2)
  11. 2-3 合成温度の影響 / p22 (0028.jp2)
  12. 2-4 ガス組成及び全流量の影響 / p24 (0030.jp2)
  13. 2-5 ε-Fe₂N相の格子定数 / p29 (0035.jp2)
  14. 2-6 微構造と磁気的性質 / p30 (0036.jp2)
  15. 2-7 まとめ / p31 (0037.jp2)
  16. 参考文献 / p33 (0039.jp2)
  17. 図表 / p35 (0041.jp2)
  18. 第3章 窒化鉄一窒化チタン薄膜 / p50 (0056.jp2)
  19. 3-1 緒言 / p50 (0056.jp2)
  20. 3-2 薄膜の作製と評価方法 / p51 (0057.jp2)
  21. 3-3 合成温度の影響 / p52 (0058.jp2)
  22. 3-4 ガス組成の影響 / p54 (0060.jp2)
  23. 3-5 磁気的性質 / p56 (0062.jp2)
  24. 3-6 微構造 / p57 (0063.jp2)
  25. 3-7 まとめ / p59 (0065.jp2)
  26. 参考文献 / p60 (0066.jp2)
  27. 図表 / p61 (0067.jp2)
  28. 第4章 酸化チタン-酸化ジルコニウム薄膜 / p74 (0080.jp2)
  29. 4-1 緒言 / p74 (0080.jp2)
  30. 4-2 薄膜の作製と評価方法 / p76 (0082.jp2)
  31. 4-3 析出速度 / p78 (0084.jp2)
  32. 4-4 構成相と組成 / p79 (0085.jp2)
  33. 4-5 微構造 / p83 (0089.jp2)
  34. 4-6 まとめ / p84 (0090.jp2)
  35. 参考文献 / p85 (0091.jp2)
  36. 図表 / p87 (0093.jp2)
  37. 第5章 チタン酸バリウムおよびチタン酸ストロンチウム薄膜 / p96 (0102.jp2)
  38. 5-1 緒言 / p96 (0102.jp2)
  39. 5-2 薄膜の作製と評価方法 / p99 (0105.jp2)
  40. 5-3 析出挙動 / p103 (0109.jp2)
  41. 5-4 結晶構造 / p103 (0109.jp2)
  42. 5-5 組成および格子定数 / p105 (0111.jp2)
  43. 5-6 微構造 / p106 (0112.jp2)
  44. 5-7 透過率 / p106 (0112.jp2)
  45. 5-8 まとめ / p108 (0114.jp2)
  46. 参考文献 / p109 (0115.jp2)
  47. 図表 / p111 (0117.jp2)
  48. 第6章 チタン酸ジルコン酸鉛およびランタン添加チタン酸ジルコン酸鉛薄膜 / p122 (0128.jp2)
  49. 6-1 緒言 / p122 (0128.jp2)
  50. 6-2 薄膜の作製と評価方法 / p125 (0131.jp2)
  51. 6-3 チタン酸ジルコン酸鉛薄膜 / p129 (0135.jp2)
  52. 6-4 ランタン添加チタン酸ジルコン酸鉛薄膜 / p139 (0145.jp2)
  53. 6-5 まとめ / p141 (0147.jp2)
  54. 参考文献 / p143 (0149.jp2)
  55. 図表 / p146 (0152.jp2)
  56. 第7章 総括 / p173 (0179.jp2)
  57. 7-1 本研究の総括 / p173 (0179.jp2)
  58. 7-2 今後の課題 / p176 (0182.jp2)
  59. 謝辞 / (0183.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000097100
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000097328
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000261414
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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