電子ビームによるマイクロパターンの測定に関する研究

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Author

    • 初澤, 毅, 1958- ハツザワ, タケシ

Bibliographic Information

Title

電子ビームによるマイクロパターンの測定に関する研究

Author

初澤, 毅, 1958-

Author(Another name)

ハツザワ, タケシ

University

東京工業大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

乙第2472号

Degree year

1993-03-31

Note and Description

博士論文

identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:99000726

Table of Contents

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / p1 (0004.jp2)
  3. 1 序論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.1 半導体プロセスにおけるマイクロパターンの測定 / p1 (0007.jp2)
  5. 1.2 研究の目的と位置づけ / p6 (0012.jp2)
  6. 1.3 論文の構成 / p9 (0015.jp2)
  7. 2 電子ビーム絶対測長装置の基本構成 / p12 (0018.jp2)
  8. 2.1 はじめに / p12 (0018.jp2)
  9. 2.2 測定原理と基本構成 / p13 (0019.jp2)
  10. 2.3 電子ビーム系 / p15 (0021.jp2)
  11. 2.4 真空系 / p18 (0024.jp2)
  12. 2.5 信号処理系 / p20 (0026.jp2)
  13. 2.6 章のまとめ / p21 (0027.jp2)
  14. 3 真空用多自由度試料走査機構の開発 / p23 (0029.jp2)
  15. 3.1 はじめに / p23 (0029.jp2)
  16. 3.2 真空用試料走査機構の構成 / p23 (0029.jp2)
  17. 3.3 走査テーブルの設計製作と性能評価 / p25 (0031.jp2)
  18. 3.4 回転テーブルの設計製作と性能評価 / p29 (0035.jp2)
  19. 3.5 試料ホルダーの設計製作と性能評価 / p38 (0044.jp2)
  20. 3.6 章のまとめ / p43 (0049.jp2)
  21. 4 測長用高分解能レーザー干渉計の開発 / p44 (0050.jp2)
  22. 4.1 はじめに / p44 (0050.jp2)
  23. 4.2 測定機用光学要素の平面度精密測定法 / p45 (0051.jp2)
  24. 4.3 光路長増倍型差動干渉計の設計製作と性能評価 / p54 (0060.jp2)
  25. 4.4 ファイバー結合型干渉計の設計製作と性能評価 / p61 (0067.jp2)
  26. 4.5 章のまとめ / p65 (0071.jp2)
  27. 5 シリコンによる標準マイクロパターンの製作 / p66 (0072.jp2)
  28. 5.1 はじめに / p66 (0072.jp2)
  29. 5.2 標準マイクロパターンの現状と製作の方針 / p66 (0072.jp2)
  30. 5.3 異方性エッチングによるシリコンパターン作製原理 / p70 (0076.jp2)
  31. 5.4 異なる線幅を持つパターンの製作と評価 / p73 (0079.jp2)
  32. 5.5 ピッチ･パターンの製作と評価 / p77 (0083.jp2)
  33. 5.6 章のまとめ / p79 (0085.jp2)
  34. 6 電子ビーム走査によるエッジ信号の理論解析 / p81 (0087.jp2)
  35. 6.1 はじめに / p81 (0087.jp2)
  36. 6.2 モンテカルロ法によるエッジ信号の推定 / p82 (0088.jp2)
  37. 6.3 修正拡散法によるエッジ信号の推定 / p87 (0093.jp2)
  38. 6.4 円筒領域モデルによるエッジ信号の推定 / p91 (0097.jp2)
  39. 6.5 章のまとめ / p95 (0101.jp2)
  40. 7 線幅測定とサブμm測長標準 / p97 (0103.jp2)
  41. 7.1 はじめに / p97 (0103.jp2)
  42. 7.2 各種の線幅定義法と特徴 / p98 (0104.jp2)
  43. 7.3 電子ビーム絶対測長装置による測定と精度 / p100 (0106.jp2)
  44. 7.4 各種パターンの測定 / p102 (0108.jp2)
  45. 7.5 光ビームによる測長との整合性の検討 / p107 (0113.jp2)
  46. 7.6 シリコン試料によるサブμm測長標準 / p109 (0115.jp2)
  47. 7.7 章のまとめ / p113 (0119.jp2)
  48. 8 結論 / p114 (0120.jp2)
  49. 謝辞 / p119 (0125.jp2)
  50. 参考文献 / p120 (0126.jp2)
  51. 発表論文等 / p125 (0131.jp2)
  52. 付録 / p128 (0134.jp2)
  53. 1 FFTによる干渉縞解析法 / p128 (0134.jp2)
  54. 2 第6章の式(6.13)の導出 / p130 (0136.jp2)
3access

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Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000097137
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000953146
  • DOI(NDL)
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 000000261451
  • Source
    • Institutional Repository
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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