微細加工用多層レジスト材料および低温エッチング法に関する研究 bisai kakoyo taso rejisuto zairyo oyobi teion etchinguho ni kansuru kenkyu
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著者
書誌事項
- タイトル
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微細加工用多層レジスト材料および低温エッチング法に関する研究
- タイトル別名
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bisai kakoyo taso rejisuto zairyo oyobi teion etchinguho ni kansuru kenkyu
- 著者名
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生津, 英夫
- 著者別名
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ナマツ, ヒデオ
- 学位授与大学
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早稲田大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
乙第939号
- 学位授与年月日
-
1993-02-12
注記・抄録
博士論文
制度:新 ; 文部省報告番号:乙939号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1993-02-12 ; 早大学位記番号:新1888 ; 理工学図書館請求番号:1612
目次
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0004.jp2)
- 1.1 はじめに / p1 (0004.jp2)
- 1.2 本研究の背景 / p3 (0005.jp2)
- 1.3 3層レジスト技術の概要 / p9 (0008.jp2)
- 1.4 本研究の目的と概要 / p11 (0009.jp2)
- 第2章 新中間層材料の開発 / p27 (0017.jp2)
- 2.1 はじめに / p27 (0017.jp2)
- 2.2 重金属中間層膜の形成とその効果 / p31 (0019.jp2)
- 2.3 水溶性中間層膜の合成とその評価 / p53 (0030.jp2)
- 2.4 ポリオルガノシロキサン中間層の構造最適化とエッチング特性 / p64 (0036.jp2)
- 2.5 総括 / p92 (0050.jp2)
- 第3章 ポリオルガノシロキサンのプラズマ酸化機構 / p95 (0051.jp2)
- 3.1 はじめに / p95 (0051.jp2)
- 3.2 実験方法 / p96 (0052.jp2)
- 3.3 酸化膜厚のプラズマ条件依存性 / p98 (0053.jp2)
- 3.4 酸化膜厚の樹脂構造依存性 / p99 (0053.jp2)
- 3.5 プラズマ酸化に対する考察 / p100 (0054.jp2)
- 3.6 結論 / p103 (0055.jp2)
- 第4章 下層材料における構造と諸特性 / p116 (0062.jp2)
- 4.1 はじめに / p116 (0062.jp2)
- 4.2 実験方法 / p117 (0062.jp2)
- 4.3 評価結果 / p118 (0063.jp2)
- 4.4 ノボラックの熱分解反応 / p121 (0064.jp2)
- 4.5 結論 / p124 (0066.jp2)
- 第5章 低温エッチングによる高精度微細加工技術 / p132 (0070.jp2)
- 5.1 はじめに / p132 (0070.jp2)
- 5.2 実験方法 / p134 (0071.jp2)
- 5.3 アンダカットの支配要因 / p135 (0071.jp2)
- 5.4 低温エッチング法 / p136 (0072.jp2)
- 5.5 低温エッチング以外の高精度加工技術 / p139 (0073.jp2)
- 5.6 微細加工に伴うその他の問題点 / p143 (0075.jp2)
- 5.7 結論 / p147 (0077.jp2)
- 第6章 微細加工用低温エッチング装置の開発 / p173 (0090.jp2)
- 6.1 はじめに / p173 (0090.jp2)
- 6.2 低温エッチングの実現 / p173 (0090.jp2)
- 6.3 連続処理装置の実現 / p175 (0091.jp2)
- 6.4 結論 / p177 (0092.jp2)
- 第7章 総括的結論 / p184 (0096.jp2)
- 謝辞 / p190 (0099.jp2)
