高密度記録用薄膜磁気ヘッドの開発に関する研究

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著者

    • 和田, 俊朗 ワダ, トシアキ

書誌事項

タイトル

高密度記録用薄膜磁気ヘッドの開発に関する研究

著者名

和田, 俊朗

著者別名

ワダ, トシアキ

学位授与大学

金沢大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第1243号

学位授与年月日

1992-09-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. -目次- / 目1 / (0003.jp2)
  2. 第1章 結論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 まえがき / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 研究の背景 / p4 (0008.jp2)
  5. 1.3 本論文の要旨 / p10 (0011.jp2)
  6. 第2章 薄膜磁気ヘッド用材料と精密加工 / p13 (0012.jp2)
  7. 2.1 緒言 / p13 (0012.jp2)
  8. 2.2 セラミックス基板材料 / p14 (0013.jp2)
  9. 2.3 セラミックス基板材の精密加工 / p23 (0017.jp2)
  10. 2.4 酸化物膜材料の精密加工 / p37 (0024.jp2)
  11. 2.5 磁性薄膜材料の付着加工と形状加工 / p47 (0029.jp2)
  12. 2.6 結言 / p71 (0041.jp2)
  13. 第3章 薄膜磁気ヘッド材料の評価 / p74 (0043.jp2)
  14. 3.1 緒言 / p74 (0043.jp2)
  15. 3.2 加工面の表面性状の評価 / p75 (0043.jp2)
  16. 3.3 加工変質層の測定 / p89 (0050.jp2)
  17. 3.4 基板材料の内部残留応力の測定 / p105 (0058.jp2)
  18. 3.5 磁気ヘッド材料のトライボロジー特性 / p108 (0060.jp2)
  19. 3.6 結言 / p129 (0070.jp2)
  20. 第4章 垂直磁気記録薄膜ヘッドの開発と評価 / p133 (0072.jp2)
  21. 4.1 緒言 / p133 (0072.jp2)
  22. 4.2 薄膜磁気ヘッドの開発 / p133 (0072.jp2)
  23. 4.3 垂直記録薄膜ヘッドの機能評価 / p153 (0082.jp2)
  24. 4.4 結言 / p169 (0090.jp2)
  25. 第5章 結論 / p171 (0091.jp2)
  26. 参考文献 / p1 (0094.jp2)
  27. 謝辞 / p11 (0099.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000097625
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000097854
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000261939
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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