高密度記録用薄膜磁気ヘッドの開発に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
-
高密度記録用薄膜磁気ヘッドの開発に関する研究
- Author
-
和田, 俊朗
- Author(Another name)
-
ワダ, トシアキ
- University
-
金沢大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
乙第1243号
- Degree year
-
1992-09-30
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- -目次- / 目1 / (0003.jp2)
- 第1章 結論 / p1 (0006.jp2)
- 1.1 まえがき / p1 (0006.jp2)
- 1.2 研究の背景 / p4 (0008.jp2)
- 1.3 本論文の要旨 / p10 (0011.jp2)
- 第2章 薄膜磁気ヘッド用材料と精密加工 / p13 (0012.jp2)
- 2.1 緒言 / p13 (0012.jp2)
- 2.2 セラミックス基板材料 / p14 (0013.jp2)
- 2.3 セラミックス基板材の精密加工 / p23 (0017.jp2)
- 2.4 酸化物膜材料の精密加工 / p37 (0024.jp2)
- 2.5 磁性薄膜材料の付着加工と形状加工 / p47 (0029.jp2)
- 2.6 結言 / p71 (0041.jp2)
- 第3章 薄膜磁気ヘッド材料の評価 / p74 (0043.jp2)
- 3.1 緒言 / p74 (0043.jp2)
- 3.2 加工面の表面性状の評価 / p75 (0043.jp2)
- 3.3 加工変質層の測定 / p89 (0050.jp2)
- 3.4 基板材料の内部残留応力の測定 / p105 (0058.jp2)
- 3.5 磁気ヘッド材料のトライボロジー特性 / p108 (0060.jp2)
- 3.6 結言 / p129 (0070.jp2)
- 第4章 垂直磁気記録薄膜ヘッドの開発と評価 / p133 (0072.jp2)
- 4.1 緒言 / p133 (0072.jp2)
- 4.2 薄膜磁気ヘッドの開発 / p133 (0072.jp2)
- 4.3 垂直記録薄膜ヘッドの機能評価 / p153 (0082.jp2)
- 4.4 結言 / p169 (0090.jp2)
- 第5章 結論 / p171 (0091.jp2)
- 参考文献 / p1 (0094.jp2)
- 謝辞 / p11 (0099.jp2)