シリコン清浄表面の相転移および金-シリコン界面でのシリサイド形成の研究

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著者

    • 窪田, 政一 クボタ, マサカズ

書誌事項

タイトル

シリコン清浄表面の相転移および金-シリコン界面でのシリサイド形成の研究

著者名

窪田, 政一

著者別名

クボタ, マサカズ

学位授与大学

東京大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

乙第10249号

学位授与年月日

1991-06-24

注記・抄録

博士論文

目次

  1. CONTENTS / (0004.jp2)
  2. Chapter1 General introduction / p1 (0005.jp2)
  3. References / p6 (0010.jp2)
  4. Chapter2 Rapid measuring system of LEED / p10 (0014.jp2)
  5. 2.1 Introduction / p11 (0015.jp2)
  6. 2.2 Data Handling / p12 (0016.jp2)
  7. 2.3 Details of Equipment / p13 (0017.jp2)
  8. 2.4 Performance / p19 (0023.jp2)
  9. References / p20 (0024.jp2)
  10. Chapter3 study of streak patterns in low-energy electron diffraction on Si(OOl) / p22 (0026.jp2)
  11. 3.1 Introduction / p23 (0027.jp2)
  12. 3.2 Experiments / p24 (0028.jp2)
  13. 3.3 Results and Discussions / p28 (0032.jp2)
  14. Reference / p48 (0052.jp2)
  15. Chapter4 Silicide formation in the Au-Si interface / p51 (0055.jp2)
  16. 4.1 Introduction / p52 (0056.jp2)
  17. 4.2 Experiments / p54 (0058.jp2)
  18. 4.3 Results and Discussions / (0059.jp2)
  19. 4.4 Conclusions / p75 (0079.jp2)
  20. Reference / p76 (0080.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000097893
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000098122
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000262207
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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