Study of the charge transfer processes at semiconductor/liquid interfaces 半導体/溶液界面での電荷移動プロセスに関する研究

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著者

    • Manivannan, A マニヴァナン, アヤカノ

書誌事項

タイトル

Study of the charge transfer processes at semiconductor/liquid interfaces

タイトル別名

半導体/溶液界面での電荷移動プロセスに関する研究

著者名

Manivannan, A

著者別名

マニヴァナン, アヤカノ

学位授与大学

東京大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第9305号

学位授与年月日

1992-03-16

注記・抄録

博士論文

目次

  1. CONTENTS / (0010.jp2)
  2. ACKNOWLEDGMENTS / (0002.jp2)
  3. PREFACE / (0003.jp2)
  4. CHAPTER I:Introduction / p1 (0012.jp2)
  5. CHAPTER II:Investigation of Current Doubling Reactions at SiC/Aqueous Electrolyte Junction in Relation to the Band Energetics / (0045.jp2)
  6. CHAPTER III:Electroluminescence at n-SiC/Electrolyte Interface under Cathodic Polari zation: Observation of EL Transients in a short Time Scale and Further Evidence for a Donor-Acceptor Transition / (0074.jp2)
  7. CHAPTER IV:Photoelectrochemical study of InP: Redox Processes using Electroluminescence as Mechanistic probe / (0112.jp2)
  8. CHAPTER V:Time Resolved Electroluminescence (EL) Measurements at SiC/electrolyte interface by Transient Study / (0142.jp2)
  9. CHAPTER VI:Surface study of n-HfS₂ single crystals by Photoelectrochemistry and Scanning Tunneling Microscopy / (0165.jp2)
  10. CHAPTER VII:Study of the Surface Electronic Properties of 1T-TaS₂ and 1T-TaS₁.₈Se₀.₂ by Stanning Tunneling Microscopy / (0177.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000098421
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000098650
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000262735
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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