高品質陽電子ビームの開発と材料研究への応用

この論文をさがす

著者

    • 廣瀬, 雅文 ヒロセ, マサフミ

書誌事項

タイトル

高品質陽電子ビームの開発と材料研究への応用

著者名

廣瀬, 雅文

著者別名

ヒロセ, マサフミ

学位授与大学

東京大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第9509号

学位授与年月日

1992-03-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 電子線LINACを用いた高強度・高品質低速陽電子ビームの開発と材料研究への応用 / p1 (0008.jp2)
  3. ABSTRACT / p1 (0008.jp2)
  4. はじめに / p2 (0009.jp2)
  5. 実験1 電子線LINACを用いた高強度単色低速陽電子ビームの発生 / p4 (0011.jp2)
  6. 1.序 / p5 (0012.jp2)
  7. 2.単色低速陽電子ビーム発生方法 / p5 (0012.jp2)
  8. 3.実験装置の概要 / p10 (0017.jp2)
  9. 4.実験結果 / p14 (0021.jp2)
  10. 5.考察・まとめ / p15 (0022.jp2)
  11. 実験2 高強度低速陽電子ビームの線質向上 / p16 (0023.jp2)
  12. 1.序 / p17 (0024.jp2)
  13. 2.磁場系から静電場系へのビーム移送 / p17 (0024.jp2)
  14. 3.輝度強化 / p19 (0026.jp2)
  15. 4.考察・まとめ / p22 (0029.jp2)
  16. 実験3 高輝度陽電子ビームの応用(1)― 反射高速陽電子線回折 ― / p23 (0030.jp2)
  17. 1.序 / p24 (0031.jp2)
  18. 2.原理 / p25 (0032.jp2)
  19. 3.実験 / p28 (0035.jp2)
  20. 4.実験結果 / p28 (0035.jp2)
  21. 5.考察・まとめ / p28 (0035.jp2)
  22. 実験4 高輝度陽電子ビームの応用(2)― 陽電子再放出顕微鏡 ― / p30 (0037.jp2)
  23. 1.序 / p31 (0038.jp2)
  24. 2.陽電子顕微鏡 / p31 (0038.jp2)
  25. 3.透過型PRM実験装置 / p37 (0044.jp2)
  26. 4.実験結果 / p38 (0045.jp2)
  27. 5.まとめ / p39 (0046.jp2)
  28. 第1章の結論 / p40 (0047.jp2)
  29. 参考文献 / p41 (0048.jp2)
  30. 付録1 パルス状陽電子ビームのDC化 / p43 (0051.jp2)
  31. 1.序 / p44 (0052.jp2)
  32. 2.原理 / p44 (0052.jp2)
  33. 3.実験結果 / p46 (0054.jp2)
  34. 4.考察・まとめ / p48 (0056.jp2)
  35. 付録2 コンピューターによる電場数値計算とビームトレース / p49 (0057.jp2)
  36. 1.序 / p50 (0058.jp2)
  37. 2.原理 / p50 (0058.jp2)
  38. 3.静電レンズ2段による陽電子ビーム収束計算プログラム(PC-Fortran) / p51 (0059.jp2)
  39. 4.計算結果 / p59 (0067.jp2)
  40. 付録3 陽電子消滅誘起イオン脱離 / p60 (0068.jp2)
  41. 1.序 / p61 (0069.jp2)
  42. 2.研究例 / p61 (0069.jp2)
  43. 3.陽電子消滅誘起イオン脱離 / p64 (0072.jp2)
  44. 付録4 Wモデレーターの劣化 / p65 (0073.jp2)
  45. 1.序 / p66 (0074.jp2)
  46. 2.Wモデレーターの劣化と回復 / p66 (0074.jp2)
  47. 3.考察 / p69 (0077.jp2)
  48. 参考文献 / p70 (0078.jp2)
  49. 第2章 RIを用いた低速陽電子ビームによる材料研究 / p71 (0080.jp2)
  50. ABSTRACT / p71 (0080.jp2)
  51. はじめに / p72 (0081.jp2)
  52. 実験1 RIを用いた単色低速陽電子ビームの発生 / p73 (0082.jp2)
  53. 1.序 / p74 (0083.jp2)
  54. 2.実験装置 / p74 (0083.jp2)
  55. 3.実験結果 / p75 (0084.jp2)
  56. 実験2 消滅γ線エネルギースペクトルによる物性研究 / p76 (0085.jp2)
  57. 1.序 / p77 (0086.jp2)
  58. 2.原理 / p77 (0086.jp2)
  59. 3.イオン照射したステンレス鋼の欠陥分布 / p80 (0089.jp2)
  60. 4.陽電子寿命測定によってポジトロニウム形成の有無がわかっている種々のポリイミド / p81 (0090.jp2)
  61. 5.低密度ポリエチレンにおけるポジトロニウム形成の温度依存性 / p83 (0092.jp2)
  62. 6.まとめ / p87 (0096.jp2)
  63. 実験3 低密度ポリエチレンにおける再放出陽電子とband gap energy 及びスパーとの相関 / p88 (0097.jp2)
  64. 1.序 / p89 (0098.jp2)
  65. 2.実験 / p89 (0098.jp2)
  66. 3.実験結果・考察 / p89 (0098.jp2)
  67. 4.まとめ / p91 (0100.jp2)
  68. 第2章の結論 / p92 (0101.jp2)
  69. 参考文献 / p93 (0102.jp2)
  70. 第3章 結論 ― 低速陽電子ビームの今後の展望 ― / p94 (0104.jp2)
  71. 謝辞 / p98 (0109.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000098625
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000098854
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000262939
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ