Crystal growth of oxide thin films using mass-separated low-energy O[+] ion beams 質量分離した低エネルギーO[+]イオンビームを用いた酸化物薄膜の結晶成長

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著者

    • 喜多, 隆介 キタ, リュウスケ

書誌事項

タイトル

Crystal growth of oxide thin films using mass-separated low-energy O[+] ion beams

タイトル別名

質量分離した低エネルギーO[+]イオンビームを用いた酸化物薄膜の結晶成長

著者名

喜多, 隆介

著者別名

キタ, リュウスケ

学位授与大学

広島大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

乙第2494号

学位授与年月日

1993-12-20

注記・抄録

博士論文

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000115117
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000115375
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000279431
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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