Bi系高温超伝導体の積層エピタキシャル薄膜の特性研究 Biケイ コウオン チョウデンドウタイ ノ セキソウ エピタキシャル ハクマク ノ トクセイ ケンキュウ

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著者

    • 太田, 裕之 オオタ, ヒロユキ

書誌事項

タイトル

Bi系高温超伝導体の積層エピタキシャル薄膜の特性研究

タイトル別名

Biケイ コウオン チョウデンドウタイ ノ セキソウ エピタキシャル ハクマク ノ トクセイ ケンキュウ

著者名

太田, 裕之

著者別名

オオタ, ヒロユキ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5577号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

14401甲第05577号

博士(工学)

大阪大学

1996-03-25

12474

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 研究背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 研究目的 / p4 (0007.jp2)
  5. 1.3 本論文の構成 / p5 (0007.jp2)
  6. 参考文献 / p6 (0008.jp2)
  7. 第2章 酸化物超伝導体の伝導特性 / p8 (0009.jp2)
  8. 2.1 はじめに / p8 (0009.jp2)
  9. 2.2 渦糸のKT転移 / p8 (0009.jp2)
  10. 2.3 酸化物高温超伝導体における渦糸のKT転移 / p13 (0011.jp2)
  11. 2.4 電荷のKT転移 / p16 (0013.jp2)
  12. 2.5 渦糸のKT転移と電荷のKT転移の競合 / p19 (0014.jp2)
  13. 2.6 酸化物超伝導体における超伝導体―絶縁体転移 / p20 (0015.jp2)
  14. 2.7 結び / p21 (0015.jp2)
  15. 参考文献 / p21 (0015.jp2)
  16. 第3章 イオンビームスパッタリング法によるBi系高温超伝導薄膜の作製 / p23 (0016.jp2)
  17. 3.1 はじめに / p23 (0016.jp2)
  18. 3.2 イオンビームスパッタ成膜装置の概略 / p23 (0016.jp2)
  19. 3.3 成膜上の留意点 / p31 (0020.jp2)
  20. 3.4 作製手順と作製条件 / p35 (0022.jp2)
  21. 3.5 薄膜の評価 / p37 (0023.jp2)
  22. 3.6 Bi2201相薄膜の作製 / p37 (0023.jp2)
  23. 3.7 Bi2212相薄膜の作製 / p40 (0025.jp2)
  24. 3.8 Bi2223相薄膜の作製 / p51 (0030.jp2)
  25. 3.9 BSCCO単相薄膜の電気抵抗 / p54 (0032.jp2)
  26. 3.10 Bi2212相の生成過程に関する考察 / p55 (0032.jp2)
  27. 3.11 結び / p62 (0036.jp2)
  28. 参考文献 / p63 (0036.jp2)
  29. 第4章 BSCCO混晶薄膜の特性評価 / p66 (0038.jp2)
  30. 4.1 はじめに / p66 (0038.jp2)
  31. 4.2 電気抵抗の測定 / p66 (0038.jp2)
  32. 4.3 混晶薄膜の電気伝導特性 / p66 (0038.jp2)
  33. 4.4 Bi2201-Bi2212混晶薄膜の電気伝導モデル / p68 (0039.jp2)
  34. 4.5 結び / p76 (0043.jp2)
  35. 参考文献 / p77 (0043.jp2)
  36. 第5章 単結晶MgO(1OO)基板の平滑化と清浄化 / p78 (0044.jp2)
  37. 5.1 はじめに / p78 (0044.jp2)
  38. 5.2 大気中でのアニーリング処理 / p79 (0044.jp2)
  39. 5.3 大気中ア二ーリングの効果 / p80 (0045.jp2)
  40. 5.4 エッチングとアニーリングの併用によるMgO(100)基板の清浄化と平滑化 / p89 (0049.jp2)
  41. 5.5 結び / p97 (0053.jp2)
  42. 参考文献 / p97 (0053.jp2)
  43. 第6章 結論 / p99 (0054.jp2)
  44. 謝辞 / p103 (0056.jp2)
  45. 研究業績目録 / p104 (0057.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000130469
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000954226
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000294783
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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